| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-14页 |
| ·论文的研究背景 | 第11-12页 |
| ·论文的研究内容 | 第12-13页 |
| 参考文献 | 第13-14页 |
| 第二章 文献综述 | 第14-46页 |
| ·APTES SAM | 第14-28页 |
| ·APTES SAM的应用 | 第14-24页 |
| ·以APTES SAM作为基底嫁接其他分子的研究 | 第14-16页 |
| ·利用APTS SAM进行微图案制备的研究 | 第16-19页 |
| ·利用APTS SAM固定蛋白质和DNA分子的研究 | 第19-22页 |
| ·利用APTS SAM制备金属镀层的研究 | 第22-23页 |
| ·利用APTS SAM进行微机电系统方面的研究 | 第23-24页 |
| ·APTES SAM的制备和表征 | 第24-28页 |
| ·APTES SAM的制备条件 | 第24-25页 |
| ·APTES SAM表面接触角的表征 | 第25-26页 |
| ·APTES SAM表面的XPS分析 | 第26-27页 |
| ·APTES SAM的膜厚 | 第27页 |
| ·APTES SAM表面形貌的AFM表征 | 第27-28页 |
| ·表面润湿现象和接触角 | 第28-42页 |
| ·表面润湿现象和接触角的理论及模型的概述 | 第28-31页 |
| ·理想表面接触角的理论和模型—杨氏方程 | 第28-29页 |
| ·粗糙表面接触角的理论和模型—Wenzel方程 | 第29-30页 |
| ·化学组成不均一表面接触角的理论和模型—Cassie方程 | 第30-31页 |
| ·接触角的滞后现象 | 第31-34页 |
| ·固体表面的粗糙度 | 第31-32页 |
| ·固体表面的组成不均一 | 第32页 |
| ·固体表面分子重排或氢键和化学键的形成 | 第32-33页 |
| ·液滴分子对固体表面的渗透 | 第33-34页 |
| ·接触角测量方法 | 第34-38页 |
| ·躺滴法(Sessile drop method) | 第34-35页 |
| ·气泡法(Gas bubble method) | 第35-36页 |
| ·斜板法(Tilting plate method) | 第36页 |
| ·圆柱法(Floating cylinder method) | 第36页 |
| ·Wilhelmy法 | 第36-37页 |
| ·其他接触角测量方法 | 第37-38页 |
| ·接触角测量的影响因素 | 第38-42页 |
| ·液滴体积对接触角测量的影响 | 第38-39页 |
| ·温度对接触角测量的影响 | 第39-40页 |
| ·液滴在样品表面停留时间对接触角测量的影响 | 第40-41页 |
| ·液滴蒸发对接触角测量的影响 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-46页 |
| 第三章 实验方法 | 第46-59页 |
| ·药品和材料 | 第46页 |
| ·单晶硅基底的预处理 | 第46-48页 |
| ·硅片的切割 | 第46页 |
| ·硅片的清洗 | 第46-47页 |
| ·硅片的刻蚀 | 第47页 |
| ·硅片的氧化 | 第47-48页 |
| ·APTES SAM和OTS/APTES混合SAM的制备 | 第48-49页 |
| ·APTES SAM的制备 | 第48页 |
| ·OTS/APTES混合SAM的制备 | 第48-49页 |
| ·APTES SAM样品的表征 | 第49-58页 |
| ·接触角的测量 | 第49-54页 |
| ·AFM | 第54-55页 |
| ·XPS | 第55-57页 |
| ·Ellipsometry | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第59-77页 |
| ·APTES SAM的形成动力学研究 | 第59-64页 |
| ·APTES SAM样品表面接触角表征的研究 | 第64-76页 |
| ·液滴在样品表面停留时间对接触角的影响 | 第64-68页 |
| ·APTES SAM样品表面接触角滞后现象的研究 | 第68-70页 |
| ·非理想表面接触角测量中若干问题的讨论 | 第70-76页 |
| ·接触角的拟合方法 | 第70-73页 |
| ·静态和动态前进接触角的比较 | 第73-76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 第五章 结论 | 第77-78页 |
| 附录 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
