非均质半透明材质的绘制及编辑算法研究
| 致谢 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 插图目录 | 第11-13页 |
| 表格目录 | 第13-14页 |
| 主要符号对照表 | 第14-15页 |
| 目次 | 第15-18页 |
| 1 引言 | 第18-24页 |
| ·非均质半透明材质的表达 | 第18-20页 |
| ·非均质半透明材质的绘制 | 第20-22页 |
| ·半透明非均质材质的编辑 | 第22-23页 |
| ·本文概览 | 第23-24页 |
| 2 基本理论 | 第24-36页 |
| ·辐射测量学 | 第24-25页 |
| ·双向次表面散射反射分布函数 | 第25-27页 |
| ·光在介质中的传播 | 第27-30页 |
| ·次表面散射 | 第27-29页 |
| ·漫射理论和双极近似 | 第29-30页 |
| ·绘制方程 | 第30-31页 |
| ·表面细微结构 | 第31-32页 |
| ·预计算辐射传输 | 第32页 |
| ·图形硬件可编程流水线和CUDA工具 | 第32-35页 |
| ·顶点/像素着色器 | 第32-33页 |
| ·CUDA | 第33-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 3 相关工作 | 第36-46页 |
| ·预计算辐射传输 | 第36-37页 |
| ·表面细节的建模及绘制 | 第37-39页 |
| ·非均质半透明材质的建模和绘制 | 第39-43页 |
| ·基于光路的模拟 | 第39-41页 |
| ·基于简化模型的绘制 | 第41-43页 |
| ·材质编辑 | 第43-45页 |
| ·BRDF的编辑 | 第44页 |
| ·BSSRDF的编辑 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 4 具有表面细节的半透明非均质材质的实时绘制 | 第46-64页 |
| ·算法概述 | 第46-47页 |
| ·SRTF的定义 | 第47-50页 |
| ·STF表达 | 第47-48页 |
| ·SRTF表达 | 第48-50页 |
| ·预计算 | 第50-54页 |
| ·f_(shell)和f_(core)的计算 | 第51-52页 |
| ·L_c的计算 | 第52-54页 |
| ·绘制 | 第54-58页 |
| ·局部光照下的绘制 | 第55-56页 |
| ·全局光照下的绘制 | 第56-58页 |
| ·实验结果 | 第58-60页 |
| ·小结 | 第60-64页 |
| 5 针对测量数据的非均质半透明材质的编辑 | 第64-88页 |
| ·算法概述 | 第65-66页 |
| ·非均质次表面散射 | 第66-67页 |
| ·表达 | 第67-74页 |
| ·目标 | 第67-69页 |
| ·SubEdit表达 | 第69-72页 |
| ·表达测量数据 | 第72-74页 |
| ·直观的编辑操作 | 第74-78页 |
| ·直观的参数化 | 第74-76页 |
| ·编辑的传递 | 第76-78页 |
| ·编辑原型系统及可视化 | 第78-82页 |
| ·编辑原型系统 | 第78-82页 |
| ·编辑效果可视化 | 第82页 |
| ·实验结果 | 第82-84页 |
| ·小结 | 第84-88页 |
| 6 动态非均质半透明材质的实时绘制 | 第88-102页 |
| ·算法概述 | 第88-89页 |
| ·相关算法比较 | 第89-91页 |
| ·实时绘制算法 | 第89-90页 |
| ·层次组织结构 | 第90-91页 |
| ·BSSRDF表达 | 第91-92页 |
| ·绘制框架 | 第92-98页 |
| ·层次组织 | 第92-96页 |
| ·运行时绘制 | 第96-98页 |
| ·实验结果 | 第98-99页 |
| ·小结 | 第99-102页 |
| 7 总结与展望 | 第102-106页 |
| ·工作总结 | 第103-104页 |
| ·未来工作的展望 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-112页 |
| 作者简历及在学期间所取得的科研成果 | 第112页 |
