| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| ·超硬膜概述 | 第10-16页 |
| ·多弧离子镀简介 | 第16-20页 |
| ·真空镀膜技术 | 第16-17页 |
| ·真空离子镀技术 | 第17-20页 |
| ·合金反应涂层的制备方法 | 第20-22页 |
| ·单元素靶多靶共用 | 第20页 |
| ·镶嵌组合 | 第20-22页 |
| ·合金靶应用与成分问题 | 第22页 |
| ·本课题的提出 | 第22-24页 |
| 2 实验设备与实验方法 | 第24-38页 |
| ·实验设备简介 | 第24-25页 |
| ·靶材的设计方法 | 第25-28页 |
| ·靶材成分设计 | 第25-28页 |
| ·靶材的结构设计 | 第28页 |
| ·基体材料的选择及预处理 | 第28-31页 |
| ·基体材料的选择 | 第28-29页 |
| ·基体材料的预处理 | 第29-30页 |
| ·基体样品结构 | 第30-31页 |
| ·薄膜的沉积工艺设计 | 第31-34页 |
| ·基体负偏压 | 第31-32页 |
| ·靶的电流强度 | 第32-33页 |
| ·反应室真空度 | 第33页 |
| ·反应气体分压 | 第33-34页 |
| ·试样的转动速率 | 第34页 |
| ·试样温度 | 第34页 |
| ·沉积时间 | 第34页 |
| ·薄膜机械性能分析测试方法 | 第34-36页 |
| ·膜层表面硬度测试 | 第34-35页 |
| ·附着力测试 | 第35-36页 |
| ·薄膜的抗高温氧化性能测试方法 | 第36-38页 |
| 3 (Ti,Al,Zr)N薄膜的制备工艺及性能测试 | 第38-64页 |
| ·薄膜的沉积工艺参数 | 第38-39页 |
| ·(Ti,Al,Zr)N薄膜显微硬度测试 | 第39-43页 |
| ·沉积偏压对硬度的影响 | 第40-42页 |
| ·N2分压对硬度的影响 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43页 |
| ·(Ti,Al,Zr)N薄膜结合强度的测试 | 第43-46页 |
| ·(Ti,Al,Zr)N膜的循环氧化性能研究 | 第46-64页 |
| ·循环氧化结果 | 第46-47页 |
| ·涂层表面形貌 | 第47-49页 |
| ·分析与讨论 | 第49-61页 |
| ·小结 | 第61-64页 |
| 4 结论 | 第64-66页 |
| 5 展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 在学研究成果 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |