| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-29页 |
| ·同步辐射光源 | 第10-12页 |
| ·同步辐射的发展历程 | 第10-11页 |
| ·同步辐射光的特点 | 第11-12页 |
| ·XAFS 方法 | 第12-15页 |
| ·XAFS 的基本原理 | 第12-13页 |
| ·XAFS 技术的特点 | 第13-14页 |
| ·XAFS 产生的物理机理 | 第14-15页 |
| ·稀磁半导体 | 第15-19页 |
| ·稀磁半导体的概念 | 第15-16页 |
| ·稀磁半导体的磁性来源 | 第16-18页 |
| ·稀磁半导体的研究进展 | 第18-19页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体薄膜的研究意义 | 第19-23页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第19-21页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体的研究进展 | 第21-23页 |
| ·本论文的选题依据及主要研究内容 | 第23-25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第二章 样品制备及实验表征方法介绍 | 第29-43页 |
| ·脉冲激光沉积技术(PLD) | 第29-32页 |
| ·PLD技术的基本原理 | 第29-30页 |
| ·PLD 技术的特点 | 第30-32页 |
| ·实验表征手段 | 第32-41页 |
| ·X 射线衍射（XRD）方法 | 第32-33页 |
| ·磁性测试仪 | 第33页 |
| ·光电子能谱分析(XPS) | 第33-34页 |
| ·XAFS 实验方法 | 第34-41页 |
| ·XAFS 实验方法的基本原理 | 第35-37页 |
| ·透射XAFS 测量法 | 第37-38页 |
| ·荧光XAFS 测量法 | 第38-41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
| 第三章 O 空位在Zn_(0.98)Co_(0.02)O 稀磁半导体薄膜中扮演的角色 | 第43-53页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·样品的制备 | 第44页 |
| ·结果与分析 | 第44-49页 |
| ·XRD 测量结果 | 第44-45页 |
| ·SQUID 测量结果 | 第45-46页 |
| ·XAFS 结果与分析 | 第46-48页 |
| ·XANES 结果与分析 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 第四章 Cr 调控Co 原子在 Co:ZnO 稀磁半导体中的分布形式的机理研究 | 第53-65页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·样品的制备 | 第54页 |
| ·实验表征及结果分析 | 第54-61页 |
| ·X 射线衍射 XRD | 第54-55页 |
| ·XAFS 结果与分析 | 第55-58页 |
| ·XPS 结果与分析 | 第58-61页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 已发表论文 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |