| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| ·X射线光电子显微镜原理和应用 | 第9-15页 |
| ·X射线与固体相互作用过程 | 第15-19页 |
| ·光电子的产生 | 第16-17页 |
| ·弛豫过程及光电子能谱(XPS) | 第17-19页 |
| ·X射线光电子显微镜成像模拟的意义 | 第19-23页 |
| 第2章 Monte Carlo模型 | 第23-38页 |
| ·X射线激发光电子的Monte Carlo模拟 | 第23-25页 |
| ·光电子与固体相互作用的Monte Carlo模拟 | 第25-29页 |
| ·电子弹性散射模型 | 第26-27页 |
| ·电子非弹性散射模型 | 第27-29页 |
| ·Monte Carlo方法的实现 | 第29-36页 |
| ·抽样方法和模拟步骤 | 第29-33页 |
| ·不同结构表面的构建 | 第33-35页 |
| ·程序并行化 | 第35-36页 |
| ·相关修正算法 | 第36-38页 |
| ·电子散射步长的修正 | 第36页 |
| ·电子能量、方向和透射几率的修正 | 第36-38页 |
| 第3章 X射线光电子显微镜成像的模拟研究 | 第38-52页 |
| ·X射线光电子显微镜成像的影响因素 | 第39-41页 |
| ·X射线入射角度 | 第39-40页 |
| ·X射线能量 | 第40-41页 |
| ·不同构型的表面的X射线光电子显微镜成像研究 | 第41-45页 |
| ·不同高度的Ag圆柱在Si衬底表面的成像结果 | 第42-43页 |
| ·球在Si衬底表面的成像结果 | 第43-44页 |
| ·”十字”结构的成像结果 | 第44页 |
| ·Ag堆垛在PMMA衬底表面的成像结果 | 第44-45页 |
| ·不同材料（Ag和Au）的X射线光电子成像研究 | 第45页 |
| ·本章总结 | 第45-52页 |
| 第4章 总结和展望 | 第52-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第61页 |