| 摘要 | 第2-3页 |
| abstract | 第3-7页 |
| 引言 | 第7-8页 |
| 第一章绪论 | 第8-24页 |
| 1.1半导体光催化剂 | 第8-12页 |
| 1.1.1半导体光催化剂的类型 | 第8-9页 |
| 1.1.2半导体的合成方法 | 第9-11页 |
| 1.1.3半导体改良设计的方法 | 第11-12页 |
| 1.1.4半导体光催化剂的应用及发展前景 | 第12页 |
| 1.2铋基光催化剂的合成及其应用 | 第12-19页 |
| 1.2.1BiVO4简介 | 第12-13页 |
| 1.2.2BiVO4的光催化机理 | 第13-14页 |
| 1.2.3提高BiVO4光催化活性的方法 | 第14-15页 |
| 1.2.4BiVO4光催化剂的应用以及发展前景 | 第15-16页 |
| 1.2.5Bi2MoO6简介 | 第16页 |
| 1.2.6Bi2MoO6的光催化机理 | 第16-17页 |
| 1.2.7提高Bi2MoO6光催化活性的方法 | 第17-18页 |
| 1.2.8Bi2MoO6光催化剂的应用以及发展前景 | 第18-19页 |
| 1.3其它类型光催化剂的研究现状 | 第19-22页 |
| 1.3.1石墨相氮化碳 | 第19-20页 |
| 1.3.2二硫化钼 | 第20页 |
| 1.3.3石墨烯及其衍生物 | 第20-22页 |
| 1.3.4聚多巴胺 | 第22页 |
| 1.4选题目的及意义 | 第22-24页 |
| 第二章试剂、仪器以及样品表征 | 第24-26页 |
| 2.1实验试剂 | 第24-25页 |
| 2.2实验仪器 | 第25页 |
| 2.3样品表征 | 第25-26页 |
| 第三章Bi2MoO6与BiVO4光电极的合成及其光电化学性能研究 | 第26-32页 |
| 3.1实验部分 | 第26-27页 |
| 3.2实验结果与讨论 | 第27-31页 |
| 3.2.1XRD表征 | 第27页 |
| 3.2.2形貌表征 | 第27-28页 |
| 3.2.3FTIR和拉曼分析 | 第28-29页 |
| 3.2.4光电性能表征 | 第29-31页 |
| 3.3本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章Bi2MoO6/BiVO4/g-C3N4I型异质结构电子输送通道的构建以及其性能的研究 | 第32-45页 |
| 4.1实验部分 | 第32-33页 |
| 4.2实验结果与讨论 | 第33-44页 |
| 4.2.1XRD表征 | 第33-34页 |
| 4.2.2SEM和TEM表征 | 第34-36页 |
| 4.2.3XPS表征 | 第36-37页 |
| 4.2.4FTIR和拉曼分析 | 第37-38页 |
| 4.2.5光电化学性能测试 | 第38-42页 |
| 4.2.6机理解释 | 第42-44页 |
| 4.3本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章BiVO4/MoS2/RGO均相混合异质结构的构建及其光电化学性能研究.. | 第45-55页 |
| 5.1实验部分 | 第45-46页 |
| 5.2结果与讨论 | 第46-53页 |
| 5.2.1XRD谱图分析 | 第46-47页 |
| 5.2.2拉曼谱图分析 | 第47-48页 |
| 5.2.3SEM与TEM表征 | 第48-50页 |
| 5.2.4XPS分析 | 第50-51页 |
| 5.2.5光电化学性能测试 | 第51-53页 |
| 5.2.6机理解释 | 第53页 |
| 5.3本章小结 | 第53-55页 |
| 第六章PDA-C/BiVO4复合结构的制备以及其应用的探索 | 第55-65页 |
| 6.1实验部分 | 第55-56页 |
| 6.2结果与讨论 | 第56-64页 |
| 6.2.1XRD谱图分析 | 第56页 |
| 6.2.2形貌表征 | 第56-58页 |
| 6.2.3光电化学性能测试 | 第58-61页 |
| 6.2.4光催化降解有机染料测试 | 第61-64页 |
| 6.2.5机理解释 | 第64页 |
| 6.3本章小结 | 第64-65页 |
| 结论与展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-76页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
