| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 自旋电子器件的应用 | 第11页 |
| 1.3 稀磁半导体的概述 | 第11-16页 |
| 1.3.1 稀磁半导体的发展历程 | 第11-13页 |
| 1.3.2 稀磁半导体的来源 | 第13-16页 |
| 1.4 SnO_2 基稀磁半导体的概述 | 第16-23页 |
| 1.4.1 SnO_2 的结构与性能 | 第16-17页 |
| 1.4.2 SnO_2 基稀磁半导体的研究现状 | 第17-23页 |
| 1.4.3 目前国内外研究所存在的问题 | 第23页 |
| 1.5 课题的研究思路与内容 | 第23-24页 |
| 1.5.1 研究思路 | 第23页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征 | 第24-36页 |
| 2.1 引言 | 第24页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第24-27页 |
| 2.2.1 磁控溅射 | 第24-25页 |
| 2.2.2 实验设备与材料 | 第25页 |
| 2.2.3 实验原理 | 第25-26页 |
| 2.2.4 实验流程 | 第26-27页 |
| 2.3 薄膜表征与性能测试 | 第27-35页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第27-29页 |
| 2.3.2 台阶测试仪（Step Profiler） | 第29页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第29-30页 |
| 2.3.4 电子顺磁共振(EPR) | 第30-31页 |
| 2.3.5 X射线吸收精细结构(XAFS) | 第31-32页 |
| 2.3.6 电输运性能的测量(PPMS) | 第32-34页 |
| 2.3.7 磁学性能测试 | 第34页 |
| 2.3.8 光学性能测试 | 第34-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 Fe、Sb共掺杂SnO_2基稀磁半导体薄膜研究 | 第36-49页 |
| 3.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第37-47页 |
| 3.2.1 Fe、Sb共掺杂SnO_2薄膜物相分析 | 第37页 |
| 3.2.2 Fe、Sb共掺杂SnO_2薄膜的价态分析 | 第37-38页 |
| 3.2.3 Fe、Sb共掺杂SnO_2薄膜的电学性能分析 | 第38-42页 |
| 3.2.4 Fe、Sb共掺杂SnO_2薄膜空位浓度分析 | 第42-43页 |
| 3.2.5 Fe、Sb共掺杂SnO_2薄膜的局域结构分析 | 第43-45页 |
| 3.2.6 Fe、Sb共掺杂SnO_2薄膜的紫外可见光光谱 | 第45-46页 |
| 3.2.7 Fe、Sb共掺杂SnO_2薄膜的磁性分析 | 第46-47页 |
| 3.3 Fe、Sb掺杂SnO_2薄膜的磁性来源 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 Fe、N共掺杂SnO_2基稀磁半导体薄膜研究 | 第49-60页 |
| 4.1 引言 | 第49-50页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第50-58页 |
| 4.2.1 Fe、N共掺杂SnO_2薄膜的物相分析 | 第50-51页 |
| 4.2.2 Fe、N共掺杂SnO_2薄膜的价态分析 | 第51-52页 |
| 4.2.3 Fe、N共掺杂SnO_2薄膜的局域结构 | 第52-54页 |
| 4.2.4 Fe、N共掺杂SnO_2空位浓度分析 | 第54页 |
| 4.2.5 Fe、N共掺杂SnO_2薄膜的输运性能 | 第54-57页 |
| 4.2.6 Fe、N共掺杂SnO_2薄膜的发光性能 | 第57-58页 |
| 4.2.7 Fe、Mg共掺杂SnO_2薄膜的磁性 | 第58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 发表论文 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
