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硅基介质超表面及其量子点嵌入式器件的研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
1 绪论第11-23页
    1.1 超材料概述第11-16页
    1.2 超表面第16-19页
    1.3 全介质超材料与超表面第19-21页
    1.4 本论文的主要研究内容及创新点第21-23页
2 谐振型全介质超表面的理论基础第23-40页
    2.1 介质颗粒的米氏谐振第23-27页
    2.2 微纳结构中的法诺谐振第27-32页
    2.3 FDTD模拟仿真第32-38页
    2.4 本章小结第38-40页
3 硅基介质超表面的制备与测试表征第40-58页
    3.1 制备工艺流程第40-43页
    3.2 电子束曝光第43-50页
    3.3 硅基ICP干法刻蚀第50-51页
    3.4 器件表征与测试第51-57页
    3.5 本章小结第57-58页
4 高品质因子柱型全介质超表面的设计第58-70页
    4.1 引言第58-59页
    4.2 基于同心圆盘-圆环结构的高品质因子全介质超表面第59-65页
    4.3 基于非对称微盘结构的高品质因子全介质超表面第65-68页
    4.4 本章小结第68-70页
5 非对称孔型高品质因子全介质超表面第70-97页
    5.1 非对称孔型介质超表面无源器件第70-78页
    5.2 量子点嵌入式非对称孔型介质超表面第78-96页
    5.3 本章小结第96-97页
6 总结和展望第97-99页
致谢第99-101页
参考文献第101-113页
附录1 攻读博士学位期间发表论文目录第113页

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