| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 天然金刚石的结构、性质和应用 | 第12-16页 |
| 1.2 人造金刚石的制备 | 第16-17页 |
| 1.2.1 热丝化学气相沉积(HFCVD) | 第16-17页 |
| 1.2.2 直流电弧等离子体喷涂化学气相沉积(DC arc plasma jet CVD) | 第17页 |
| 1.2.3 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD) | 第17页 |
| 1.3 CVD纳米金刚石的制备原理 | 第17-21页 |
| 1.3.1 纳米金刚石的形核 | 第18-20页 |
| 1.3.2 纳米金刚石膜的生长 | 第20-21页 |
| 1.4 纳米金刚石真空窗口的制备 | 第21-22页 |
| 1.4.1 纳米金刚石真空窗口的应用与发展 | 第21-22页 |
| 1.4.2 纳米金刚石真空窗口的结构 | 第22页 |
| 1.5 本课题的研究目的和意义 | 第22-24页 |
| 第2章 实验装置与表征方法 | 第24-30页 |
| 2.1 微波等离子体化学沉积实验装置 | 第24-26页 |
| 2.2 等离子体发射光谱诊断装置(OES) | 第26-27页 |
| 2.3 真空高频感应焊接装置 | 第27-28页 |
| 2.4 表征方法 | 第28-30页 |
| 2.4.1 拉曼光谱(Raman) | 第28页 |
| 2.4.2 原子力显微镜(AFM) | 第28-29页 |
| 2.4.3 X射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| 第3章 MPCVD沉积纳米金刚石膜的研究 | 第30-52页 |
| 3.1 乙醇/氩气氢气等离子体发射光谱分析 | 第30-36页 |
| 3.1.1 乙醇浓度对等离子体中基团的影响 | 第30-34页 |
| 3.1.2 氩气对等离子体中基团的影响 | 第34-36页 |
| 3.2 乙醇浓度对纳米金刚石膜的影响 | 第36-41页 |
| 3.2.1 乙醇浓度对金刚石膜表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| 3.2.2 乙醇浓度对金刚石膜质量的影响 | 第38-39页 |
| 3.2.3 乙醇浓度对金刚石膜生长模式的影响 | 第39-41页 |
| 3.3 氩气浓度对纳米金刚石膜的影响 | 第41-45页 |
| 3.3.1 氩气浓度对金刚石表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.2 氩气浓度对金刚石晶面取向的影响 | 第42-44页 |
| 3.3.3 氩气浓度对金刚石质量的影响 | 第44-45页 |
| 3.4 衬底温度对纳米金刚石膜的影响 | 第45-49页 |
| 3.4.1 衬底温度对金刚石晶粒尺寸的影响 | 第45-46页 |
| 3.4.2 衬底温度对金刚石质量、应力的影响 | 第46-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-52页 |
| 第4章 金刚石真空窗口的制备与焊接工艺的研究 | 第52-74页 |
| 4.1 引言 | 第52-53页 |
| 4.2 纳米金刚石自支撑窗口的制备 | 第53-60页 |
| 4.2.1 一种利用掩膜法制备金刚石真空窗口自支撑框架的方法 | 第53-55页 |
| 4.2.2 一种图形化制备金刚石真空窗口自支撑框架的方法 | 第55-57页 |
| 4.2.3 金刚石框架沉积工艺参数的研究 | 第57-59页 |
| 4.2.4 纳米金刚石真空窗口表面大分子物质的清除 | 第59-60页 |
| 4.3 纳米金刚石真空窗口的性质 | 第60-65页 |
| 4.3.1 纳米金刚石真空窗口漏气率的分析 | 第60-63页 |
| 4.3.2 纳米金刚石真空窗口透光率的分析 | 第63-65页 |
| 4.4 纳米金刚石真空窗口的焊接 | 第65-71页 |
| 4.4.1 焊接的温度曲线 | 第65-66页 |
| 4.4.2 石墨模具的设计 | 第66-67页 |
| 4.4.3 金刚石真空窗口焊接流程设计 | 第67-69页 |
| 4.4.4 焊接结果测试与分析 | 第69-71页 |
| 4.5 本章小节 | 第71-74页 |
| 第5章 结论与展望 | 第74-76页 |
| 5.1 结论 | 第74-75页 |
| 5.2 展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及专利 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
