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纳米金刚石真空窗口的制备

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-24页
    1.1 天然金刚石的结构、性质和应用第12-16页
    1.2 人造金刚石的制备第16-17页
        1.2.1 热丝化学气相沉积(HFCVD)第16-17页
        1.2.2 直流电弧等离子体喷涂化学气相沉积(DC arc plasma jet CVD)第17页
        1.2.3 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)第17页
    1.3 CVD纳米金刚石的制备原理第17-21页
        1.3.1 纳米金刚石的形核第18-20页
        1.3.2 纳米金刚石膜的生长第20-21页
    1.4 纳米金刚石真空窗口的制备第21-22页
        1.4.1 纳米金刚石真空窗口的应用与发展第21-22页
        1.4.2 纳米金刚石真空窗口的结构第22页
    1.5 本课题的研究目的和意义第22-24页
第2章 实验装置与表征方法第24-30页
    2.1 微波等离子体化学沉积实验装置第24-26页
    2.2 等离子体发射光谱诊断装置(OES)第26-27页
    2.3 真空高频感应焊接装置第27-28页
    2.4 表征方法第28-30页
        2.4.1 拉曼光谱(Raman)第28页
        2.4.2 原子力显微镜(AFM)第28-29页
        2.4.3 X射线衍射(XRD)第29-30页
第3章 MPCVD沉积纳米金刚石膜的研究第30-52页
    3.1 乙醇/氩气氢气等离子体发射光谱分析第30-36页
        3.1.1 乙醇浓度对等离子体中基团的影响第30-34页
        3.1.2 氩气对等离子体中基团的影响第34-36页
    3.2 乙醇浓度对纳米金刚石膜的影响第36-41页
        3.2.1 乙醇浓度对金刚石膜表面形貌的影响第37-38页
        3.2.2 乙醇浓度对金刚石膜质量的影响第38-39页
        3.2.3 乙醇浓度对金刚石膜生长模式的影响第39-41页
    3.3 氩气浓度对纳米金刚石膜的影响第41-45页
        3.3.1 氩气浓度对金刚石表面形貌的影响第41-42页
        3.3.2 氩气浓度对金刚石晶面取向的影响第42-44页
        3.3.3 氩气浓度对金刚石质量的影响第44-45页
    3.4 衬底温度对纳米金刚石膜的影响第45-49页
        3.4.1 衬底温度对金刚石晶粒尺寸的影响第45-46页
        3.4.2 衬底温度对金刚石质量、应力的影响第46-49页
    3.5 本章小结第49-52页
第4章 金刚石真空窗口的制备与焊接工艺的研究第52-74页
    4.1 引言第52-53页
    4.2 纳米金刚石自支撑窗口的制备第53-60页
        4.2.1 一种利用掩膜法制备金刚石真空窗口自支撑框架的方法第53-55页
        4.2.2 一种图形化制备金刚石真空窗口自支撑框架的方法第55-57页
        4.2.3 金刚石框架沉积工艺参数的研究第57-59页
        4.2.4 纳米金刚石真空窗口表面大分子物质的清除第59-60页
    4.3 纳米金刚石真空窗口的性质第60-65页
        4.3.1 纳米金刚石真空窗口漏气率的分析第60-63页
        4.3.2 纳米金刚石真空窗口透光率的分析第63-65页
    4.4 纳米金刚石真空窗口的焊接第65-71页
        4.4.1 焊接的温度曲线第65-66页
        4.4.2 石墨模具的设计第66-67页
        4.4.3 金刚石真空窗口焊接流程设计第67-69页
        4.4.4 焊接结果测试与分析第69-71页
    4.5 本章小节第71-74页
第5章 结论与展望第74-76页
    5.1 结论第74-75页
    5.2 展望第75-76页
参考文献第76-80页
攻读硕士期间发表的论文及专利第80-82页
致谢第82页

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