| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 金刚石的结构、性质及应用 | 第11-14页 |
| 1.1.1 金刚石的结构 | 第11-12页 |
| 1.1.2 金刚石的性质及应用 | 第12-14页 |
| 1.2 CVD金刚石技术简介 | 第14-17页 |
| 1.2.1 CVD金刚石膜沉积机理 | 第14-15页 |
| 1.2.2 CVD金刚石膜技术分类 | 第15-16页 |
| 1.2.3 CVD金刚石分类 | 第16-17页 |
| 1.3 MPCVD技术的发展趋势 | 第17-23页 |
| 1.3.1 石英管式MPCVD装置 | 第17-18页 |
| 1.3.2 石英钟罩式MPCVD装置 | 第18-19页 |
| 1.3.3 圆柱形谐振腔式MPCVD装置 | 第19-21页 |
| 1.3.4 环形天线式MPCVD装置 | 第21-22页 |
| 1.3.5 椭球谐振腔式MPCVD装置 | 第22-23页 |
| 1.4 光学级金刚石膜的发展现状 | 第23-25页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 实验装置和表征方法 | 第27-35页 |
| 2.1 实验装置 | 第27-31页 |
| 2.2 表征方法 | 第31-35页 |
| 2.2.1 光发射谱 | 第31-32页 |
| 2.2.2 光学显微镜 | 第32页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第32-33页 |
| 2.2.4 X射线衍射 | 第33页 |
| 2.2.5 拉曼光谱 | 第33-34页 |
| 2.2.6 傅里叶红外光谱 | 第34-35页 |
| 第3章 高功率对MPCVD的影响研究 | 第35-51页 |
| 3.1 高功率微波电磁场的研究 | 第35-38页 |
| 3.2 高功率微波等离子体的模拟研究 | 第38-41页 |
| 3.3 高功率微波等离子体放电的研究 | 第41-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-51页 |
| 第4章 光学级金刚石膜的制备研究 | 第51-69页 |
| 4.1 不同甲烷浓度的影响 | 第51-59页 |
| 4.2 不同氧气浓度的影响 | 第59-66页 |
| 4.3 光学级金刚石膜的制备 | 第66-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第5章 915MHZ高功率MPCVD装置开发及金刚石膜制备研究 | 第69-79页 |
| 5.1 915 MHz频率微波等离子体检测分析 | 第69-72页 |
| 5.2 915 MHz高功率MPCVD装置前期基础实验研究 | 第72-75页 |
| 5.3 915 MHz高功率MPCVD装置制备金刚石膜难点分析 | 第75-77页 |
| 5.4 本章小结 | 第77-79页 |
| 第6章 全文总结与展望 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-89页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第89-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
