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高功率MPCVD法制备光学级金刚石膜的研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-27页
    1.1 金刚石的结构、性质及应用第11-14页
        1.1.1 金刚石的结构第11-12页
        1.1.2 金刚石的性质及应用第12-14页
    1.2 CVD金刚石技术简介第14-17页
        1.2.1 CVD金刚石膜沉积机理第14-15页
        1.2.2 CVD金刚石膜技术分类第15-16页
        1.2.3 CVD金刚石分类第16-17页
    1.3 MPCVD技术的发展趋势第17-23页
        1.3.1 石英管式MPCVD装置第17-18页
        1.3.2 石英钟罩式MPCVD装置第18-19页
        1.3.3 圆柱形谐振腔式MPCVD装置第19-21页
        1.3.4 环形天线式MPCVD装置第21-22页
        1.3.5 椭球谐振腔式MPCVD装置第22-23页
    1.4 光学级金刚石膜的发展现状第23-25页
    1.5 本文的主要研究内容第25-27页
第2章 实验装置和表征方法第27-35页
    2.1 实验装置第27-31页
    2.2 表征方法第31-35页
        2.2.1 光发射谱第31-32页
        2.2.2 光学显微镜第32页
        2.2.3 扫描电子显微镜第32-33页
        2.2.4 X射线衍射第33页
        2.2.5 拉曼光谱第33-34页
        2.2.6 傅里叶红外光谱第34-35页
第3章 高功率对MPCVD的影响研究第35-51页
    3.1 高功率微波电磁场的研究第35-38页
    3.2 高功率微波等离子体的模拟研究第38-41页
    3.3 高功率微波等离子体放电的研究第41-48页
    3.4 本章小结第48-51页
第4章 光学级金刚石膜的制备研究第51-69页
    4.1 不同甲烷浓度的影响第51-59页
    4.2 不同氧气浓度的影响第59-66页
    4.3 光学级金刚石膜的制备第66-68页
    4.4 本章小结第68-69页
第5章 915MHZ高功率MPCVD装置开发及金刚石膜制备研究第69-79页
    5.1 915 MHz频率微波等离子体检测分析第69-72页
    5.2 915 MHz高功率MPCVD装置前期基础实验研究第72-75页
    5.3 915 MHz高功率MPCVD装置制备金刚石膜难点分析第75-77页
    5.4 本章小结第77-79页
第6章 全文总结与展望第79-81页
参考文献第81-89页
攻读硕士期间已发表的论文第89-91页
致谢第91页

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