| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 TiO_2基本结构及光催化原理 | 第10-12页 |
| 1.1.1 晶体结构 | 第10页 |
| 1.1.2 能带结构 | 第10-11页 |
| 1.1.3 光催化原理 | 第11-12页 |
| 1.2 TiO_2薄膜的应用 | 第12-14页 |
| 1.2.1 污水处理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 空气净化 | 第13页 |
| 1.2.3 杀菌消毒 | 第13-14页 |
| 1.2.4 TiO_2薄膜超亲水性和自清洁作用 | 第14页 |
| 1.3 TiO_2薄膜的制备方法 | 第14-15页 |
| 1.4 机械球磨法 | 第15-17页 |
| 1.4.1 机械球磨法的原理 | 第15-16页 |
| 1.4.2 机械球磨法的发展及应用 | 第16-17页 |
| 1.5 论文的研究意义、内容及技术线路 | 第17-20页 |
| 1.5.1 论文的研究意义 | 第17-18页 |
| 1.5.2 论文的研究内容 | 第18-19页 |
| 1.5.3 技术路线 | 第19-20页 |
| 2 实验材料、设备和方法 | 第20-25页 |
| 2.1 实验材料料和设备 | 第20-21页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第20页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第20-21页 |
| 2.2 实验方法 | 第21-25页 |
| 2.2.1 金属铝膜的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.2 二氧化钛薄膜的制备 | 第22页 |
| 2.2.3 薄膜与基体结合性能测试 | 第22-23页 |
| 2.2.4 薄膜厚度的测定、显微形貌观察与物相分析 | 第23页 |
| 2.2.5 催化性能检测 | 第23-25页 |
| 3 机械球磨法制备金属薄膜的预研究 | 第25-31页 |
| 3.1 铝薄膜的制备及工艺优化研究 | 第25-28页 |
| 3.1.1 球磨转速和球磨时间 | 第27页 |
| 3.1.2 球料比 | 第27-28页 |
| 3.2 铝膜的形貌及组成 | 第28-30页 |
| 3.3 本章小结 | 第30-31页 |
| 4 机械球磨法氧化铝球体上制备TiO_2薄膜工艺优化及催化性能研究 | 第31-47页 |
| 4.1 球磨工艺参数研究 | 第31-36页 |
| 4.1.1 球磨转速对钛膜厚度的影响 | 第31-33页 |
| 4.1.2 球磨时间对氧化铝球体上钛薄膜厚度的影响 | 第33-36页 |
| 4.1.3 薄膜与基体的结合性能 | 第36页 |
| 4.2 不同热处理温度下薄膜的宏观形貌和微观结构 | 第36-40页 |
| 4.3 薄膜的光催化性能 | 第40-46页 |
| 4.3.1 不同热处理温度下薄膜的光催化性能 | 第40-42页 |
| 4.3.2 薄膜厚度对光催化性能的影响 | 第42-43页 |
| 4.3.3 催化剂投入量对薄膜光催化性能的影响 | 第43-45页 |
| 4.3.4 薄膜的重复使用性能 | 第45-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 5 机械球磨法氧化锆球体上制备TiO_2薄膜工艺优化及催化性能研究 | 第47-57页 |
| 5.1 球磨工艺参数研究 | 第47-51页 |
| 5.1.1 球磨转速对膜厚的影响 | 第47-49页 |
| 5.1.2 球磨时间对膜厚的影响 | 第49-50页 |
| 5.1.3 薄膜与基体的结合性能 | 第50-51页 |
| 5.2 薄膜的光催化性能 | 第51-55页 |
| 5.2.1 热处理后的薄膜物相分析 | 第51-52页 |
| 5.2.2 薄膜厚度对光催化性能的影响 | 第52-53页 |
| 5.2.3 催化剂投入量对薄膜光催化性能的影响 | 第53-54页 |
| 5.2.4 薄膜的重复使用性能 | 第54页 |
| 5.2.5 两种载体薄膜的性能比较 | 第54-55页 |
| 5.3 本章小结 | 第55-57页 |
| 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
