| 摘要 | 第2-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-22页 |
| 1.1 有机工业废水概述 | 第10-11页 |
| 1.1.1 有机废水的概述 | 第10页 |
| 1.1.2 有机工业废水特性及分类 | 第10页 |
| 1.1.3 有机工业废水的危害 | 第10-11页 |
| 1.2 有机工业废水的处理方法 | 第11-15页 |
| 1.2.1 物理法 | 第11-12页 |
| 1.2.2 生物降解法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 高级氧化法 | 第13-15页 |
| 1.3 TiO_2光催化技术 | 第15-19页 |
| 1.3.1 TiO_2光催化机理 | 第15-17页 |
| 1.3.2 影响TiO_2光催化性能的因素 | 第17页 |
| 1.3.3 TiO_2光催化材料的改性 | 第17-19页 |
| 1.4 TiO_2光催化选择性降解的研究 | 第19-20页 |
| 1.4.1 控制电位法 | 第19页 |
| 1.4.2 表面改性法 | 第19页 |
| 1.4.3 分子印迹法 | 第19-20页 |
| 1.5 选题意义和研究内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 论文的选题意义 | 第20-21页 |
| 1.5.2 论文研究内容 | 第21-22页 |
| 2 实验药品及实验仪器 | 第22-25页 |
| 2.1 实验药品 | 第22页 |
| 2.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.3 表征手段 | 第23-25页 |
| 3 混晶TiO_2光催化剂的制备与表征 | 第25-34页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 分子印迹型光催化剂的制备 | 第25页 |
| 3.3 制备条件对混晶TiO_2晶型的影响 | 第25-29页 |
| 3.4 光催化剂的表征 | 第29-33页 |
| 3.4.1 引言 | 第29页 |
| 3.4.2 表征及性能测试 | 第29-33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 4 分子印迹型混晶TiO_2光催化剂光催化降解有机污染物 | 第34-48页 |
| 4.1 引言 | 第34页 |
| 4.2 实验药品和仪器 | 第34页 |
| 4.3 光催化剂催化降解DNBP溶液 | 第34-44页 |
| 4.3.1 所选用的污染物简介 | 第34-35页 |
| 4.3.2 DNBP溶液标准曲线的建立 | 第35-36页 |
| 4.3.3 印迹与无印迹型催化剂对DNBP溶液的吸附性能 | 第36页 |
| 4.3.4 不同光催化剂对DNBP的光氧化降解性能研究 | 第36-39页 |
| 4.3.5 溶液初始pH值对光催化剂催化降解DNBP的影响 | 第39-40页 |
| 4.3.6 催化剂浓度的影响 | 第40-41页 |
| 4.3.7 DNBP初始浓度的影响及动力学研究 | 第41-43页 |
| 4.3.8 催化剂重复利用 | 第43-44页 |
| 4.4 分子印迹混晶TiO_2光催化剂对混合污染物溶液中DNBP的选择性降解研究 | 第44-46页 |
| 4.4.1 罗丹明B溶液标准曲线的建立 | 第44-45页 |
| 4.4.2 印迹与无印迹催化剂对混合溶液的光催化实验 | 第45-46页 |
| 4.5 本章小结 | 第46-48页 |
| 5 混晶TiO_2光催化剂的Fe~(3+)和La~(3+)掺杂及磁性负载 | 第48-63页 |
| 5.1 引言 | 第48页 |
| 5.2 Fe~(3+)和La~(3+)掺杂混晶TiO_2光催化剂的制备及表征 | 第48-57页 |
| 5.2.1 Fe~(3+)和La~(3+)对混晶TiO_2光催化剂的的掺杂 | 第48页 |
| 5.2.2 掺杂后催化剂的表征 | 第48-57页 |
| 5.3 掺杂后催化剂的光催化性能测试 | 第57-58页 |
| 5.3.1 光催化实验 | 第57页 |
| 5.3.2 掺杂后光催化剂对DNBP光降解实验的结果与讨论 | 第57页 |
| 5.3.3 分子印迹型掺杂后光催化剂对DNBP降解实验的结果与讨论 | 第57-58页 |
| 5.4 混晶TiO_2光催化剂的磁性负载及表征 | 第58-60页 |
| 5.4.1 光催化剂的磁性负载 | 第58-59页 |
| 5.4.2 磁性负载后光催化剂的表征 | 第59-60页 |
| 5.5 磁性负载后光催化剂对DNBP降解实验的结果与讨论 | 第60-61页 |
| 5.6 本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
