| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-12页 |
| 第二章 文献综述 | 第12-23页 |
| 2.1 光催化反应基本原理 | 第12-14页 |
| 2.2 半导体光催化的特点 | 第14-15页 |
| 2.3 光催化技术发展现状及趋势 | 第15-18页 |
| 2.3.1 金属离子掺杂改性 | 第16页 |
| 2.3.2 非金属掺杂改性 | 第16页 |
| 2.3.3 半导体复合改性 | 第16-17页 |
| 2.3.4 光敏化改性 | 第17页 |
| 2.3.5 贵金属及金属氧化物沉积改性 | 第17-18页 |
| 2.4 光催化活性影响因素 | 第18-20页 |
| 2.4.1 晶体结构 | 第18页 |
| 2.4.2 粒径大小 | 第18-19页 |
| 2.4.3 表面羟基 | 第19页 |
| 2.4.4 热处理时温度和气氛 | 第19页 |
| 2.4.5 载体效应 | 第19-20页 |
| 2.4.6 外场效应 | 第20页 |
| 2.5 尖晶石型光催化剂的制备 | 第20-23页 |
| 2.5.1 固相法 | 第21页 |
| 2.5.2 气相法 | 第21页 |
| 2.5.3 液相法 | 第21-23页 |
| 第三章 实验方法 | 第23-29页 |
| 3.1 实验概述 | 第23-25页 |
| 3.1.1 传统溶胶-凝胶法原理 | 第23-24页 |
| 3.1.2 本实验的溶胶-凝胶原理 | 第24-25页 |
| 3.2 样品制备及光催化实验 | 第25-27页 |
| 3.2.1 原料及设备 | 第25-26页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第26-27页 |
| 3.3 样品性能表征 | 第27-29页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第29-55页 |
| 4.1 CuBi_2O_4光催化剂的性能表征及其光催化活性研究 | 第29-38页 |
| 4.1.1 CuBi_2O_4差热分析 | 第29-31页 |
| 4.1.2 CuBi_2O_4尖晶石粉体X射线衍射分析 | 第31-32页 |
| 4.1.3 CuBi_2O_4尖晶石粉体表面形貌分析 | 第32-33页 |
| 4.1.4 CuBi_2O_4尖晶石粉体X-射线能量散射谱分析 | 第33-34页 |
| 4.1.5 CuBi_2O_4尖晶石粉体紫外可见漫反射光谱分析 | 第34-35页 |
| 4.1.6 CuBi_2O_4尖晶石粉体的光催化降解 | 第35-38页 |
| 4.2 MBi_2O_4(M=Zn,Ni)光催化剂的性能表征及其光催化活性研究 | 第38-47页 |
| 4.2.1 MBi_2O_4(M=Zn,Ni)样品的差热分析 | 第38-39页 |
| 4.2.2 MBi_2O_4(M=Zn,Ni)样品的X射线衍射分析 | 第39-41页 |
| 4.2.3 MBi_2O_4(M=Zn,Ni)样品的表面形貌分析 | 第41-42页 |
| 4.2.4 ZnBi_2O_4样品的X射线光电子能谱分析 | 第42-43页 |
| 4.2.5 MBi_2O_4(M=Zn,Ni)样品的紫外可见漫反射光谱分析 | 第43-44页 |
| 4.2.6 MBi_2O_4(M=Zn,Ni)样品的光催化降解 | 第44-47页 |
| 4.3 掺杂型铋系光催化剂的性能表征及其光催化活性研究 | 第47-55页 |
| 4.3.1 尖晶石型铋系光催化剂掺杂元素的确定 | 第47-49页 |
| 4.3.2 AAlBiO_4 (A=Mg、Ni、Cu、Zn)光催化材料X射线衍射分析 | 第49-51页 |
| 4.3.3 AAlBiO_4 (A=Mg、Ni、Cu、Zn)光催化材料表面形貌分析 | 第51页 |
| 4.3.4 AAlBiO_4 (A=Mg、Ni、Cu、Zn)光催化材料紫外漫反射光谱分析 | 第51-52页 |
| 4.3.5 AAlBiO_4 (A=Mg、Ni、Cu、Zn)光催化材料的光催化降解 | 第52-55页 |
| 第五章 结论与展望 | 第55-59页 |
| 5.1 结论 | 第55-56页 |
| 5.2 展望 | 第56-59页 |
| 5.2.1 实际应用 | 第56-57页 |
| 5.2.2 存在问题 | 第57-58页 |
| 5.2.3 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 本文的研究特色和创新之处 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 附录 作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第66页 |
