| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 ZnO的结构与性质 | 第12-15页 |
| 1.2.1 ZnO的基本性质 | 第12页 |
| 1.2.2 ZnO的晶体结构 | 第12-14页 |
| 1.2.3 ZnO的能带结构 | 第14-15页 |
| 1.3 ZnO透明导电薄膜的性能 | 第15-19页 |
| 1.3.1 ZnO透明导电薄膜的光学性能 | 第15页 |
| 1.3.2 ZnO透明导电薄膜的电学性能 | 第15-17页 |
| 1.3.3 ZnO透明导电薄膜的附着性能 | 第17-19页 |
| 1.4 柔性ZnO透明导电薄膜 | 第19-25页 |
| 1.4.1 柔性ZnO透明导电薄膜的应用 | 第19-20页 |
| 1.4.2 柔性ZnO透明导电薄膜的制备方法 | 第20-23页 |
| 1.4.3 柔性ZnO透明导电薄膜的研究现状 | 第23-25页 |
| 1.5 本论文的立题思路和研究内容 | 第25-28页 |
| 第二章 实验方法与表征方式 | 第28-36页 |
| 2.1 磁控溅射技术 | 第28-34页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理 | 第28-32页 |
| 2.1.2 磁控溅射设备 | 第32-33页 |
| 2.1.3 薄膜的制备方法 | 第33-34页 |
| 2.2 薄膜的表征手段 | 第34-36页 |
| 第三章 柔性ZnO透明导电膜的制备和性能研究 | 第36-48页 |
| 3.1 溅射气压对柔性GZO薄膜性能的影响 | 第36-42页 |
| 3.1.1 薄膜的XRD分析 | 第36-38页 |
| 3.1.2 薄膜的SEM表征 | 第38页 |
| 3.1.3 薄膜的光电性能 | 第38-40页 |
| 3.1.4 薄膜的附着性能 | 第40-41页 |
| 3.1.5 小结 | 第41-42页 |
| 3.2 Ar流量速率对柔性GZO薄膜性能的影响 | 第42-48页 |
| 3.2.1 薄膜的XRD分析 | 第42-43页 |
| 3.2.2 薄膜的SEM表征 | 第43-44页 |
| 3.2.3 薄膜的光电性能 | 第44-46页 |
| 3.2.4 薄膜的附着性能 | 第46-47页 |
| 3.2.5 小结 | 第47-48页 |
| 第四章 柔性ZnO薄膜附着性能的优化 | 第48-63页 |
| 4.1 柔性ZnO薄膜的附着机制分析 | 第48-54页 |
| 4.1.1 GZO薄膜的性能表征 | 第48-50页 |
| 4.1.2 应力状态分析 | 第50-51页 |
| 4.1.3 界面成分分布情况 | 第51-52页 |
| 4.1.4 界面化学态分析 | 第52-53页 |
| 4.1.5 小结 | 第53-54页 |
| 4.2 TiO_2缓冲层对柔性ZnO薄膜附着性能的优化 | 第54-63页 |
| 4.2.1 薄膜的XRD分析 | 第55-57页 |
| 4.2.2 薄膜的附着性能 | 第57-58页 |
| 4.2.3 薄膜的SEM表征 | 第58-59页 |
| 4.2.4 薄膜的光电性能 | 第59-61页 |
| 4.2.5 小结 | 第61-63页 |
| 第五章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 附录 攻读学位期间取得的科研成果 | 第75页 |