| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第10-26页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-12页 |
| 1.2 半导体光分解水制氢 | 第12-15页 |
| 1.2.1 基本原理 | 第12-14页 |
| 1.2.2 研究进展 | 第14-15页 |
| 1.3 硅光阴极光分解水制氢 | 第15-21页 |
| 1.3.1 硅材料特性 | 第16-17页 |
| 1.3.2 研究进展 | 第17-19页 |
| 1.3.3 效率提高方法 | 第19-21页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-26页 |
| 第二章 实验用品与样品表征方法 | 第26-33页 |
| 2.1 实验材料与仪器设备 | 第26-27页 |
| 2.2 样品的表征途径 | 第27-30页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| 2.2.2 透射电子显微镜 | 第28页 |
| 2.2.3 X射线光电子能谱 | 第28-29页 |
| 2.2.4 拉曼(Raman)光谱 | 第29-30页 |
| 2.3 样品性能的表征 | 第30-32页 |
| 2.3.1 光学性能表征 | 第30页 |
| 2.3.2 样品表面亲水性能测试 | 第30页 |
| 2.3.3 样品光电化学性能测试 | 第30-32页 |
| 参考文献 | 第32-33页 |
| 第三章 基于Pt催化剂的高效稳定硅光阴极研究 | 第33-48页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 实验部分 | 第34-37页 |
| 3.2.1 化学试剂及溶液配制 | 第34页 |
| 3.2.2 光电极制备 | 第34-35页 |
| 3.2.3 氢气中退火 | 第35页 |
| 3.2.4 Pt催化剂的沉积 | 第35-36页 |
| 3.2.5 TiO_2保护层的制作 | 第36页 |
| 3.2.6 能量转换效率的计算 | 第36页 |
| 3.2.7 催化剂表征 | 第36页 |
| 3.2.8 光电化学测试 | 第36-37页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第37-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 第四章 三元二维材料Mo_(0.5)W_(0.5)Se_2硅光阴极的制备和性能研究 | 第48-58页 |
| 4.1 引言 | 第48-49页 |
| 4.2 试验部分 | 第49-50页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第49页 |
| 4.2.2 薄膜制备 | 第49-50页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第50-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第五章 总结 | 第58-59页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表的论文及科研成果 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |