纳米金刚石薄膜掺硼的工艺研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 纳米金刚石薄膜的结构特点 | 第11-12页 |
| 1.2 纳米金刚石薄膜的性质和应用 | 第12-17页 |
| 1.2.1 纳米金刚石薄膜的力学性能 | 第12-13页 |
| 1.2.2 纳米金刚石薄膜的光学性能 | 第13-14页 |
| 1.2.3 纳米金刚石薄膜的热学性能 | 第14页 |
| 1.2.4 纳米金刚石薄膜的声学性能 | 第14-15页 |
| 1.2.5 纳米金刚石薄膜的电学性能 | 第15-17页 |
| 1.3 纳米金刚石薄膜的制备机理 | 第17-20页 |
| 1.3.1 金刚石膜生长机理 | 第17-19页 |
| 1.3.2 经典理论在纳米金刚石薄膜中的不适用 | 第19-20页 |
| 1.4 纳米金刚石薄膜制备的研究现状 | 第20-22页 |
| 1.5 纳米金刚石薄膜掺杂的研究现状 | 第22-24页 |
| 1.5.1 纳米金刚石薄膜的n型掺杂 | 第23页 |
| 1.5.2 纳米金刚石薄膜的p型掺杂 | 第23-24页 |
| 1.6 纳米金刚石薄膜掺硼的研究与应用 | 第24-27页 |
| 1.6.1 纳米金刚石薄膜掺硼研究现状 | 第24-26页 |
| 1.6.2 掺硼纳米金刚石薄膜的应用 | 第26-27页 |
| 1.7 本论文的研究目的和意义 | 第27-29页 |
| 第2章 实验及表征 | 第29-41页 |
| 2.1 纳米金刚石薄膜的制备装置 | 第29-34页 |
| 2.1.1 微波系统和反应腔体 | 第30-31页 |
| 2.1.2 真空及检测系统 | 第31-32页 |
| 2.1.3 进气系统 | 第32-33页 |
| 2.1.4 反应腔体和保护系统 | 第33-34页 |
| 2.2 纳米金刚石薄膜的掺硼装置 | 第34-36页 |
| 2.2.1 微波系统 | 第35页 |
| 2.2.2 进气系统 | 第35-36页 |
| 2.2.3 真空系统 | 第36页 |
| 2.2.4 保护系统及反应腔体 | 第36页 |
| 2.3 样品的表征方法 | 第36-41页 |
| 2.3.1 光学金相显微镜 | 第37页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第37-38页 |
| 2.3.3 原子力显微镜 | 第38页 |
| 2.3.4 拉曼光谱 | 第38-39页 |
| 2.3.5 四探针电阻测试仪 | 第39-40页 |
| 2.3.6 二次离子质谱仪 | 第40-41页 |
| 第3章 高平整度纳米金刚石薄膜的制备研究 | 第41-53页 |
| 3.1 实验部分 | 第41-42页 |
| 3.2 工艺参数对纳米金刚石薄膜质量的影响 | 第42-50页 |
| 3.2.1 反应气压 | 第42-44页 |
| 3.2.2 沉积时间 | 第44-46页 |
| 3.2.3 碳源浓度 | 第46-48页 |
| 3.2.4 微波功率 | 第48-50页 |
| 3.3 本章小结 | 第50-53页 |
| 第4章 纳米金刚石薄膜掺硼工艺研究 | 第53-67页 |
| 4.1 实验 | 第54-55页 |
| 4.2 掺硼对纳米金刚石薄膜的影响 | 第55-65页 |
| 4.2.1 掺杂温度对掺硼的影响 | 第55-60页 |
| 4.2.2 硼源浓度对掺硼的影响 | 第60-65页 |
| 4.3 本章小结 | 第65-67页 |
| 第5章 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第79页 |
