| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究动态与发展趋势 | 第11-15页 |
| 1.2.1 TaN薄膜的研究进展 | 第11-14页 |
| 1.2.2 薄膜匹配负载的研究进展 | 第14-15页 |
| 1.3 选题依据和研究内容 | 第15-17页 |
| 1.3.1 选题依据 | 第15页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 TaN薄膜制备与研究 | 第17-27页 |
| 2.1 低TCR的TaN薄膜设计 | 第17-19页 |
| 2.2 TaN薄膜的制备与测试方法 | 第19-20页 |
| 2.3 Ta/TaN多层膜的研究 | 第20-23页 |
| 2.3.1 氮分压与Ta/TaN多层膜相成分的关系 | 第21-22页 |
| 2.3.3 氮分压与Ta/ TaN多层膜电阻率的关系 | 第22页 |
| 2.3.4 氮分压与Ta/TaN多层膜TCR的关系 | 第22-23页 |
| 2.4 TiN/TaN薄膜的研究 | 第23-26页 |
| 2.4.1 TaN层溅射时间与TiN/TaN多层膜相结构的关系 | 第24-25页 |
| 2.4.2 TaN层溅射时间与TiN/TaN多层膜电阻率的关系 | 第25页 |
| 2.4.3 TaN层溅射时间与TiN/TaN多层膜TCR的关系 | 第25-26页 |
| 2.5 小结 | 第26-27页 |
| 第三章 薄膜匹配负载的设计与仿真 | 第27-53页 |
| 3.1 薄膜匹配负载的基本模型 | 第27-31页 |
| 3.1.1 薄膜匹配负载的基本原理 | 第27-31页 |
| 3.1.2 匹配负载的关键指标 | 第31页 |
| 3.2 单电阻膜匹配负载的研究 | 第31-36页 |
| 3.3 阵列型薄膜匹配负载的研究 | 第36-43页 |
| 3.3.1 薄膜匹配负载的宽频和高功率的关系 | 第36-37页 |
| 3.3.2 阵列型结构的基本结构 | 第37-38页 |
| 3.3.3 阵列型匹配负载的设计 | 第38-43页 |
| 3.4 无卷绕接地匹配负载的研究 | 第43-46页 |
| 3.5 功率负载分析 | 第46-51页 |
| 3.5.1 模型与仿真方法 | 第46-49页 |
| 3.5.2 匹配负载器件的热仿真 | 第49-51页 |
| 3.6 小结 | 第51-53页 |
| 第四章 匹配负载的制备与测试 | 第53-66页 |
| 4.1 制备器件的工艺流程 | 第53-54页 |
| 4.2 微波匹配负载的测试 | 第54-65页 |
| 4.2.1 微波性能测试 | 第54-59页 |
| 4.2.2 加载功率测试 | 第59-65页 |
| 4.3 小结 | 第65-66页 |
| 第五章 结论与展望 | 第66-68页 |
| 5.1 结论 | 第66-67页 |
| 5.2 展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第72-73页 |
