| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第14-36页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第14-16页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第14页 |
| 1.1.2 研究背景及意义 | 第14-16页 |
| 1.2 等离子体射流质量分离法的提出 | 第16-19页 |
| 1.3 等离子体射流的研究现状 | 第19-23页 |
| 1.3.1 离子异常加速现象的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.3.2 磁旋转等离子体射流的研究现状 | 第20-21页 |
| 1.3.3 等离子体鞘层的研究现状 | 第21页 |
| 1.3.4 稳态等离子体推力器电子输运的研究现状 | 第21-22页 |
| 1.3.5 射流在磁流体发电领域的研究现状 | 第22-23页 |
| 1.3.6 等离子体射流文献概述 | 第23页 |
| 1.4 低温等离子体的数值模拟方法 | 第23-33页 |
| 1.4.1 单粒子模型 | 第24-25页 |
| 1.4.2 流体模型 | 第25-26页 |
| 1.4.3 粒子网格模型 | 第26-33页 |
| 1.5 本文研究目的及主要内容 | 第33-36页 |
| 第2章 等离子体射流源加速特性的研究 | 第36-60页 |
| 2.1 引言 | 第36页 |
| 2.2 等离子体射流源的基本结构和工作原理 | 第36-40页 |
| 2.2.1 等离子体射流源基本结构 | 第36-37页 |
| 2.2.2 等离子体射流源工作原理 | 第37-39页 |
| 2.2.3 通道磁场的生成 | 第39-40页 |
| 2.3 等离子体射流源加速特性的研究 | 第40-58页 |
| 2.3.1 加速特性的实验研究 | 第41-49页 |
| 2.3.2 加速特性的数值研究 | 第49-58页 |
| 2.3.3 对射流源加速特性的讨论 | 第58页 |
| 2.4 本章小结 | 第58-60页 |
| 第3章 电子横越磁场输运机制的研究 | 第60-84页 |
| 3.1 引言 | 第60页 |
| 3.2 电子横越磁场的运动机制 | 第60-68页 |
| 3.2.1 电子在磁场中的运动 | 第60-62页 |
| 3.2.2 电子经典输运的物理描述 | 第62-64页 |
| 3.2.3 电子玻姆扩散的物理描述 | 第64页 |
| 3.2.4 电子近绝缘壁输运的物理描述 | 第64-68页 |
| 3.3 绝缘壁鞘层PIC模型的建立 | 第68-74页 |
| 3.3.1 鞘层对近绝缘壁输运的影响 | 第68-69页 |
| 3.3.2 角向加速器绝缘壁面二次电子发射模型的建立 | 第69-72页 |
| 3.3.3 模型的边界条件 | 第72-74页 |
| 3.4 鞘层的PIC模拟 | 第74-83页 |
| 3.4.1 磁场对平板鞘层的影响 | 第76-77页 |
| 3.4.2 电子温度对平板鞘层的影响 | 第77-79页 |
| 3.4.3 工作物质种类对平板鞘层的影响 | 第79-81页 |
| 3.4.4 二次电子发射系数对平板鞘层的影响 | 第81-83页 |
| 3.5 本章小结 | 第83-84页 |
| 第4章 射流运动特性研究以及角向加速器的改进 | 第84-103页 |
| 4.1 引言 | 第84页 |
| 4.2 离子在角向加速器中的运动特性 | 第84-89页 |
| 4.2.1 角向加速器磁路系统 | 第84-86页 |
| 4.2.2 离子在径向磁场中的运动分析 | 第86-89页 |
| 4.3 角向加速器中等离子体射流运动特性的PIC模拟 | 第89-93页 |
| 4.3.1 电子在角向加速器中的输运机制 | 第89-90页 |
| 4.3.2 角向加速器边界条件 | 第90-91页 |
| 4.3.3 等离子体运动特性的PIC模拟 | 第91-93页 |
| 4.4 角向加速器的改进与空间电荷补偿实验 | 第93-101页 |
| 4.4.1 空心阴极的工作原理 | 第94-95页 |
| 4.4.2 离子能量与运动轨道半径关系 | 第95-97页 |
| 4.4.3 实验数据分析 | 第97-101页 |
| 4.5 本章小结 | 第101-103页 |
| 第5章 等离子体射流在聚焦器中的运动特性 | 第103-118页 |
| 5.1 引言 | 第103页 |
| 5.2 聚焦器正交磁场和电场的生成 | 第103-105页 |
| 5.2.1 聚焦器的磁路系统 | 第103-105页 |
| 5.2.2 聚焦器电场生成系统 | 第105页 |
| 5.3 离子在聚焦器中的运动特性 | 第105-110页 |
| 5.3.1 离子在聚焦器中的运动轨迹分析 | 第106-108页 |
| 5.3.2 离子在聚焦器中的能量分析 | 第108-110页 |
| 5.4 射流在聚焦器中的PIC模拟 | 第110-117页 |
| 5.4.1 PIC模型边界条件 | 第110-111页 |
| 5.4.2 聚焦器中射流的PIC模拟结果和分析 | 第111-117页 |
| 5.5 本章小结 | 第117-118页 |
| 结论 | 第118-120页 |
| 参考文献 | 第120-133页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及其它成果 | 第133-135页 |
| 致谢 | 第135-137页 |
| 个人简历 | 第137页 |