铌掺杂二氧化钛透明导电氧化物薄膜的制备及其光电性能的优化
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 图和附表清单 | 第11-13页 |
| 1 前言 | 第13-26页 |
| 1.1 氧化铟锡（ITO)薄膜的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.2 铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.3 氟掺杂的氧化锡(FTO)薄膜的研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 铌掺杂二氧化钛(NTO)薄膜 | 第18-21页 |
| 1.4.1 二氧化钛的性质 | 第18-19页 |
| 1.4.2 铌掺杂二氧化钛薄膜的研究现状 | 第19-21页 |
| 1.5 TCO的制备方法 | 第21-26页 |
| 1.5.1 磁控溅射法 | 第21-22页 |
| 1.5.2 真空蒸发法 | 第22-23页 |
| 1.5.3 脉冲激光沉积法 | 第23-24页 |
| 1.5.4 喷雾热分解法 | 第24页 |
| 1.5.5 溶胶-凝胶法 | 第24页 |
| 1.5.6 化学气相沉积法 | 第24-26页 |
| 2 研究内容及方法 | 第26-42页 |
| 2.1 制备NTO的方法：远源等离子体溅射系统 | 第26-36页 |
| 2.1.1 等离子体物理基础 | 第26-28页 |
| 2.1.2 远源等离子体溅射系统工作原理 | 第28-31页 |
| 2.1.3 远源等离子体溅射系统的技术特点 | 第31-36页 |
| 2.2 NTO薄膜的制备过程 | 第36-37页 |
| 2.2.1 薄膜制备的准备工作 | 第36页 |
| 2.2.2 薄膜的制备 | 第36-37页 |
| 2.3 NTO薄膜的性能的表征 | 第37-42页 |
| 2.3.1 薄膜厚度的测量 | 第37-38页 |
| 2.3.2 薄膜光学性能的表征 | 第38-39页 |
| 2.3.3 薄膜的晶体学性能表征 | 第39-40页 |
| 2.3.4 薄膜电学性能的表征 | 第40页 |
| 2.3.5 薄膜显微形貌的表征 | 第40-41页 |
| 2.3.6 薄膜表面元素价态的表征 | 第41-42页 |
| 3 铌掺杂二氧化钛薄膜的结构和性能演变 | 第42-63页 |
| 3.1 氧气流量对NTO薄膜性能的影响 | 第42-48页 |
| 3.1.1 沉积速率 | 第42-44页 |
| 3.1.2 光学性能 | 第44-45页 |
| 3.1.3 电学性能 | 第45-47页 |
| 3.1.4 结晶情况 | 第47-48页 |
| 3.2 薄膜显微形貌的研究 | 第48-50页 |
| 3.3 热处理对薄膜性能的影响 | 第50-59页 |
| 3.3.1 热处理对薄膜电学性能的影响 | 第50-53页 |
| 3.3.2 热处理对薄膜光学性能的影响 | 第53-56页 |
| 3.3.3 热处理对薄膜晶体学性能的影响 | 第56-59页 |
| 3.3.4 热处理对薄膜微观形貌的影响 | 第59页 |
| 3.4 制备薄膜参数的优化 | 第59-61页 |
| 3.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 4 铌掺杂二氧化钛薄膜的光电性能协调 | 第63-74页 |
| 4.1 加热前后电阻变化的分析 | 第63-65页 |
| 4.2 铌掺杂二氧化钛薄膜的能带结构研究 | 第65-68页 |
| 4.3 加热处理前后薄膜的XPS研究 | 第68-71页 |
| 4.4 对于NTO薄膜光电性能的讨论 | 第71-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-74页 |
| 5 结论与展望 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文及研究成果 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
