| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 超疏水材料概述 | 第11-16页 |
| 1.1.1 表面自由能 | 第11-12页 |
| 1.1.2 接触角和杨氏方程 | 第12-13页 |
| 1.1.3 Wenzel 和 Cassie-Baxter 模型 | 第13-14页 |
| 1.1.4 前进接触角、后退接触角和接触角滞后现象 | 第14页 |
| 1.1.5 超疏水表面的制备技术 | 第14-16页 |
| 1.2 响应性材料概述 | 第16-25页 |
| 1.2.1 光响应性材料 | 第16-20页 |
| 1.2.2 温度响应材料 | 第20-21页 |
| 1.2.3 pH 响应性材料 | 第21-23页 |
| 1.2.4 响应性材料的应用 | 第23-25页 |
| 1.3 课题的提出与研究内容 | 第25-27页 |
| 1.3.1 课题提出 | 第25-26页 |
| 1.3.2 研究目的 | 第26页 |
| 1.3.3 研究内容 | 第26-27页 |
| 第2章 RAFT 法合成双响应性聚合物及其表征 | 第27-34页 |
| 2.1 引言 | 第27-28页 |
| 2.2 实验部分 | 第28-30页 |
| 2.2.1 原料和试剂 | 第28页 |
| 2.2.2 7-(6-溴己氧基)香豆素（7-6-BC）的合成 | 第28-29页 |
| 2.2.3 7-(6-丙烯酸己氧酯基)香豆素（7-6-AC）的合成 | 第29页 |
| 2.2.4 RAFT 法聚合 7-(6-丙烯酸己氧酯基)香豆素 | 第29页 |
| 2.2.5 聚 7-(6-丙烯酸己氧酯基)香豆素-b-聚 N-异丙基丙烯酰胺的制备 | 第29-30页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第30-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-34页 |
| 第3章 光与温度双重响应超疏水材料的制备及表征 | 第34-51页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 实验部分 | 第35-38页 |
| 3.2.1 原料和试剂 | 第35-37页 |
| 3.2.2 二氧化硅表面修饰合成 SiO_2-TDI | 第37页 |
| 3.2.3 P(7-6-AC)-b-PNIPAAm 的端基还原反应 | 第37页 |
| 3.2.4 二氧化硅表面接枝还原聚合物 | 第37-38页 |
| 3.2.5 光、温度双重响应超疏水膜的制备 | 第38页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第38-48页 |
| 3.3.1 SiO_2/P(7-6-AC)-b-PNIPAAm 复合材料的合成表征 | 第38-40页 |
| 3.3.2 SiO_2/P(7-6-AC)-b-PNIPAAm 复合材料分散性研究 | 第40-42页 |
| 3.3.3 SiO_2/P(7-6-AC)-b-PNIPAAm 复合材料的响应性研究 | 第42-48页 |
| 3.4 材料的光响应机理与温度响应机理研究 | 第48-50页 |
| 3.4.1 光响应机理研究 | 第48-49页 |
| 3.4.2 温度响应机理研究 | 第49-50页 |
| 3.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-59页 |
| （附录A）攻读硕士学位期间发表的论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
