| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 文献综述及选题意义 | 第11-27页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 无机层状化合物及无机层状复合材料概述 | 第11-13页 |
| 1.2.1 无机层状化合物的结构与类别 | 第11-12页 |
| 1.2.2 无机层状化合物的制备方法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 制备无机层状复合材料的基本思路 | 第13页 |
| 1.3 层状过渡金属氧化物概述 | 第13-19页 |
| 1.3.1 层状过渡金属氧化物的典型代表 | 第14-17页 |
| 1.3.2 层状过渡金属氧化物的柱撑机制 | 第17-19页 |
| 1.3.3 层状过渡金属氧化物的主要表征方法 | 第19页 |
| 1.4 氧化硅、氧化钛、氧化铜柱层状过渡金属氧化物的研究进展 | 第19-22页 |
| 1.4.1 氧化硅柱层状过渡金属氧化物的制备及应用 | 第19-20页 |
| 1.4.2 氧化钛柱层状过渡金属氧化物的制备及应用 | 第20-21页 |
| 1.4.3 氧化铜柱层状过渡金属氧化物的制备及应用 | 第21-22页 |
| 1.5 层状铌钨酸和钽钨酸概述 | 第22-25页 |
| 1.5.1 层状铌钨酸锂和钽钨酸锂及其结构 | 第22页 |
| 1.5.2 层状铌钨酸和钽钨酸 | 第22-24页 |
| 1.5.3 层状铌钨酸和钽钨酸在催化领域的应用 | 第24-25页 |
| 1.6 本论文研究内容和意义 | 第25-27页 |
| 第二章 Cu~(2+)与AAPTS的络合行为及Cu(AAPTS)_2~(+2)与正丙胺预支撑铌钨酸（或钽钨酸）的插层反应行为研究 | 第27-50页 |
| 2.1 实验部分 | 第28-33页 |
| 2.1.1 主要试剂 | 第28-29页 |
| 2.1.2 铌钨酸锂和水合铌钨酸的制备 | 第29页 |
| 2.1.3 正丙胺预支撑层状铌钨酸的制备 | 第29-30页 |
| 2.1.4 Cu(AAPTS)_2~(+2)与正丙胺预支撑层状铌钨酸的插层反应 | 第30页 |
| 2.1.5 钽钨酸锂和水合钽钨酸的制备 | 第30-31页 |
| 2.1.6 正丙胺预支撑层状钽钨酸的制备 | 第31页 |
| 2.1.7 Cu(AAPTS)_2~(+2)与正丙胺预支撑层状钽钨酸的插层反应 | 第31页 |
| 2.1.8 结构表征及光吸收性能测试 | 第31-32页 |
| 2.1.9 铜含量测定 | 第32-33页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第33-49页 |
| 2.2.1 水合铌钨酸和正丙胺预支撑铌钨酸的合成与结构 | 第33-34页 |
| 2.2.2 Cu(AAPTS)_2~(+2)与 C3-HNbWO_6插层反应结果及氧化铜和氧化硅共柱撑层状铌钨酸 | 第34-42页 |
| 2.2.3 洗涤条件对纯 AAPTS 与 C3-HNbWO_6插层反应产物结构的影响 | 第42-43页 |
| 2.2.4 水合钽钨酸和正丙胺预支撑钽钨酸的合成与结构 | 第43-44页 |
| 2.2.5 Cu(AAPTS)_2~(+2)+与 C3-HTaWO_6插层反应结果及氧化铜和氧化硅共柱撑层状钽钨酸 | 第44-49页 |
| 2.3 结论 | 第49-50页 |
| 第三章 Co~(2+)与 AAPTS 的络合行为及 Co(AAPTS)_n~(2+)与正丙胺预支撑铌钨酸（或钽钨酸）的插层反应行为研究 | 第50-62页 |
| 3.1 实验部分 | 第50-52页 |
| 3.1.1 主要试剂 | 第50页 |
| 3.1.2 Co(AAPTS)_n~(2+)与正丙胺预支撑层状铌钨酸（或钽钨酸）的插层反应 | 第50-51页 |
| 3.1.3 结构表征及光吸收性能测试 | 第51页 |
| 3.1.4 钴含量测定 | 第51-52页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第52-60页 |
| 3.2.1 Co(AAPTS)_n~(2+)与 C3-HNbWO_6的插层反应结果及钴的氧化物和氧化硅共柱撑层状铌钨酸 | 第52-57页 |
| 3.2.2 Co(AAPTS)_n~(2+)与 C3-HTaWO_6的插层反应结果及钴的氧化物和氧化硅共柱撑层状钽钨酸 | 第57-60页 |
| 3.3 结论 | 第60-62页 |
| 第四章 AAPTS 和 Ni~(2+)在正丙胺预支撑铌钨酸（或钽钨酸）层间的插层行为及其在层间的现场络合作用 | 第62-74页 |
| 4.1 实验部分 | 第62-64页 |
| 4.1.1 主要试剂 | 第62页 |
| 4.1.2 AAPTS 和 Ni~(2+)与正丙胺预支撑层状铌钨酸（或钽钨酸）的插层反应 | 第62-63页 |
| 4.1.3 结构表征及光吸收性能测试 | 第63页 |
| 4.1.4 镍含量测定 | 第63-64页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第64-73页 |
| 4.2.1 AAPTS 和 Ni~(2+)与 C3-HNbWO_6的插层反应结果及氧化镍和氧化硅共柱撑层状铌钨酸 | 第64-69页 |
| 4.2.2 AAPTS 和 Ni~(2+)与 C3-HTaWO_6的插层反应结果及氧化镍与氧化硅共柱撑钽钨酸 | 第69-73页 |
| 4.3 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 个人简历 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
