单极脉冲溅射制备C、N掺杂Ti-O薄膜及其性能研究:利用气相碳氮源
摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第10-18页 |
1.1 前言 | 第10页 |
1.2 薄膜的力学性能 | 第10-12页 |
1.2.1 薄膜的应力 | 第10-11页 |
1.2.2 薄膜的硬度 | 第11-12页 |
1.3 二氧化钛的概述 | 第12-15页 |
1.3.1 二氧化钛光催化原理 | 第12-13页 |
1.3.2 二氧化钛材料改性 | 第13-14页 |
1.3.3 二氧化钛在光催化与抗菌方面的应用 | 第14-15页 |
1.4 二氧化钛薄膜的制备方法 | 第15-16页 |
1.4.1 溶胶-凝胶法 | 第15页 |
1.4.2 化学气相沉积法 | 第15页 |
1.4.3 物理气相沉积法 | 第15-16页 |
1.5 研究意义与研究内容和方法 | 第16-18页 |
1.5.1 研究意义 | 第16页 |
1.5.2 研究内容和方法 | 第16-18页 |
2 薄膜制备及表征方法 | 第18-21页 |
2.1 薄膜的制备材料与方法 | 第18-19页 |
2.1.1 实验材料与设备 | 第18页 |
2.1.2 薄膜的制备方法 | 第18-19页 |
2.2 薄膜的表征设备与方法 | 第19-21页 |
2.2.1 原子力显微镜(AFM) | 第19页 |
2.2.2 X射线衍射(XRD) | 第19-20页 |
2.2.3 拉曼光谱(Raman) | 第20页 |
2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第20页 |
2.2.5 纳米力学系统 | 第20页 |
2.2.6 紫外-可见分光光度计 | 第20-21页 |
3 薄膜的界面层工艺研究 | 第21-27页 |
3.1 实验设计与制备参数 | 第21-22页 |
3.2 力学性能测试 | 第22-26页 |
3.2.1 膜基结合力测试 | 第22-24页 |
3.2.2 薄膜的硬度和杨氏模量 | 第24-26页 |
3.3 本章小结 | 第26-27页 |
4 C:Ti-O薄膜的制备与表征 | 第27-46页 |
4.1 实验设计与制备参数 | 第27页 |
4.2 薄膜的表征与讨论 | 第27-40页 |
4.2.1 形貌表征 | 第27-30页 |
4.2.2 物相分析 | 第30-32页 |
4.2.3 成分测试 | 第32-38页 |
4.2.4 透射光谱与带隙宽度 | 第38-39页 |
4.2.5 力学性能测试 | 第39-40页 |
4.3 光催化与抗菌性能 | 第40-45页 |
4.3.1 光催化性能 | 第40-42页 |
4.3.2 抗菌性能 | 第42-45页 |
4.4 本章小结 | 第45-46页 |
5 C+N:Ti-O薄膜的制备与表征 | 第46-57页 |
5.1 实验设计与制备参数 | 第46页 |
5.2 薄膜的表征与讨论 | 第46-54页 |
5.2.1 形貌表征 | 第46-47页 |
5.2.2 物相分析 | 第47-49页 |
5.2.3 成分测试 | 第49-51页 |
5.2.4 透射光谱与带隙宽度 | 第51-52页 |
5.2.5 力学性能测试 | 第52-54页 |
5.3 光催化与抗菌性能 | 第54-56页 |
5.3.1 光催化性能 | 第54页 |
5.3.2 抗菌性能 | 第54-56页 |
5.4 本章小结 | 第56-57页 |
6 结论与展望 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-61页 |
硕士期间取得的科研成果 | 第61-62页 |
致谢 | 第62页 |