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单极脉冲溅射制备C、N掺杂Ti-O薄膜及其性能研究:利用气相碳氮源

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
1 绪论第10-18页
    1.1 前言第10页
    1.2 薄膜的力学性能第10-12页
        1.2.1 薄膜的应力第10-11页
        1.2.2 薄膜的硬度第11-12页
    1.3 二氧化钛的概述第12-15页
        1.3.1 二氧化钛光催化原理第12-13页
        1.3.2 二氧化钛材料改性第13-14页
        1.3.3 二氧化钛在光催化与抗菌方面的应用第14-15页
    1.4 二氧化钛薄膜的制备方法第15-16页
        1.4.1 溶胶-凝胶法第15页
        1.4.2 化学气相沉积法第15页
        1.4.3 物理气相沉积法第15-16页
    1.5 研究意义与研究内容和方法第16-18页
        1.5.1 研究意义第16页
        1.5.2 研究内容和方法第16-18页
2 薄膜制备及表征方法第18-21页
    2.1 薄膜的制备材料与方法第18-19页
        2.1.1 实验材料与设备第18页
        2.1.2 薄膜的制备方法第18-19页
    2.2 薄膜的表征设备与方法第19-21页
        2.2.1 原子力显微镜(AFM)第19页
        2.2.2 X射线衍射(XRD)第19-20页
        2.2.3 拉曼光谱(Raman)第20页
        2.2.4 X射线光电子能谱(XPS)第20页
        2.2.5 纳米力学系统第20页
        2.2.6 紫外-可见分光光度计第20-21页
3 薄膜的界面层工艺研究第21-27页
    3.1 实验设计与制备参数第21-22页
    3.2 力学性能测试第22-26页
        3.2.1 膜基结合力测试第22-24页
        3.2.2 薄膜的硬度和杨氏模量第24-26页
    3.3 本章小结第26-27页
4 C:Ti-O薄膜的制备与表征第27-46页
    4.1 实验设计与制备参数第27页
    4.2 薄膜的表征与讨论第27-40页
        4.2.1 形貌表征第27-30页
        4.2.2 物相分析第30-32页
        4.2.3 成分测试第32-38页
        4.2.4 透射光谱与带隙宽度第38-39页
        4.2.5 力学性能测试第39-40页
    4.3 光催化与抗菌性能第40-45页
        4.3.1 光催化性能第40-42页
        4.3.2 抗菌性能第42-45页
    4.4 本章小结第45-46页
5 C+N:Ti-O薄膜的制备与表征第46-57页
    5.1 实验设计与制备参数第46页
    5.2 薄膜的表征与讨论第46-54页
        5.2.1 形貌表征第46-47页
        5.2.2 物相分析第47-49页
        5.2.3 成分测试第49-51页
        5.2.4 透射光谱与带隙宽度第51-52页
        5.2.5 力学性能测试第52-54页
    5.3 光催化与抗菌性能第54-56页
        5.3.1 光催化性能第54页
        5.3.2 抗菌性能第54-56页
    5.4 本章小结第56-57页
6 结论与展望第57-58页
参考文献第58-61页
硕士期间取得的科研成果第61-62页
致谢第62页

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