硅烯、硼烯和CO分子晶体的MBE生长与STM研究
摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 引言 | 第10-21页 |
1.1 类石墨烯材料的研究进展 | 第10-16页 |
1.2 显微技术的发展 | 第16-20页 |
1.3 本论文主要研究内容和结构 | 第20-21页 |
第2章 基本实验技术 | 第21-44页 |
2.1 分子束外延生长 | 第21-28页 |
2.1.1 超高真空技术 | 第22-25页 |
2.1.2 表面清洁 | 第25-26页 |
2.1.3 热蒸发源 | 第26-28页 |
2.1.4 膜厚仪 | 第28页 |
2.1.5 反射式高能电子衍射仪 | 第28页 |
2.2 扫描隧道显微学 | 第28-43页 |
2.2.1 基本原理 | 第29-34页 |
2.2.2 扫描隧道谱 | 第34-41页 |
2.2.3 原子力显微镜 | 第41-43页 |
2.3 本章总结 | 第43-44页 |
第3章 硅烯的生长与卤化研究 | 第44-58页 |
3.1 研究背景 | 第44-48页 |
3.2 单层硅烯的生长 | 第48页 |
3.3 单层硅烯的卤化与结构表征 | 第48-57页 |
3.3.1 4×4相 | 第49-52页 |
3.3.2 √13×√13相 | 第52-54页 |
3.3.3 2√3×2√3相 | 第54-57页 |
3.4 本章总结 | 第57-58页 |
第4章 硼烯的生长与STM研究 | 第58-73页 |
4.1 研究背景 | 第58-60页 |
4.2 前期工作 | 第60-61页 |
4.3 硼烯中一维电荷密度序 | 第61-65页 |
4.4 蜂窝硼烯的生长 | 第65-72页 |
4.4.1 实验方法 | 第66-67页 |
4.4.2 实验结果与分析 | 第67-72页 |
4.5 本章总结 | 第72-73页 |
第5章 CO在Cu(111)表面的吸附研究 | 第73-94页 |
5.1 研究背景 | 第73-76页 |
5.2 实验方法 | 第76-77页 |
5.3 少量CO分子的吸附 | 第77-81页 |
5.4 CO分子晶体的反常相变 | 第81-93页 |
5.4.1 实验结果 | 第81-88页 |
5.4.2 分析与讨论 | 第88-93页 |
5.5 本章总结 | 第93-94页 |
第6章 总结与展望 | 第94-96页 |
附录 AQplusAFM的搭建 | 第96-103页 |
参考文献 | 第103-114页 |
个人简历及发表文章目录 | 第114-116页 |
致谢 | 第116-117页 |