| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-26页 |
| 1.1 皱纹(wrinkle)的形成 | 第8-14页 |
| 1.1.1 皱纹的形成机理 | 第9-10页 |
| 1.1.2 皱纹的制备方法 | 第10-13页 |
| 1.1.3 皱纹的应用 | 第13-14页 |
| 1.2 皱褶(crease)的产生 | 第14-20页 |
| 1.2.1 溶胀受限体系形成皱褶的机理 | 第15-19页 |
| 1.2.2 皱褶的应用 | 第19-20页 |
| 1.3 聚噻吩简介 | 第20-23页 |
| 1.3.1 聚噻吩的应用 | 第21-23页 |
| 1.3.1.1 有机太阳能电池 | 第21-23页 |
| 1.3.1.2 有机薄膜晶体管 | 第23页 |
| 1.3.1.3 传感器 | 第23页 |
| 1.4 课题的提出及研究内容 | 第23-26页 |
| 第2章 实验部分 | 第26-32页 |
| 2.1 实验材料和仪器 | 第26-27页 |
| 2.2 样品的制备 | 第27-30页 |
| 2.2.1 PDMS弹性体的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.2 氧等离子体处理PDMS基底 | 第28-29页 |
| 2.2.3 山脊状结构的制备 | 第29页 |
| 2.2.4 山脊状结构和皱纹共存的复合结构的制备 | 第29-30页 |
| 2.3 测试表征 | 第30-32页 |
| 2.3.1 倒置荧光显微镜观测(Optical Microscopy,OM) | 第30页 |
| 2.3.2 原子力显微镜观测(AFM) | 第30页 |
| 2.3.3 紫外可见光谱测定(Uv-vis) | 第30页 |
| 2.3.4 荧光光谱测定(FL) | 第30-32页 |
| 第3章 山脊状结构的制备与调控 | 第32-42页 |
| 3.1 P3HT薄膜表面的山脊状结构 | 第32-33页 |
| 3.2 山脊状结构的形成机理 | 第33-36页 |
| 3.2.1 THF溶剂溶胀PDMS基底 | 第33-34页 |
| 3.2.2 P3HT/THF溶液溶胀PDMS基底 | 第34页 |
| 3.2.3 自支撑的P3HT膜的表面形貌 | 第34-36页 |
| 3.3 溶胀时间对山脊状结构的影响 | 第36-37页 |
| 3.4 溶液浓度和PDMS_(n:1)对山脊状结构的影响 | 第37-39页 |
| 3.5 氧等离子体处理时间对山脊状结构的影响 | 第39页 |
| 3.6 不同溶液制备的山脊状结构 | 第39-41页 |
| 3.7 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 规整的山脊状结构的制备 | 第42-52页 |
| 4.1 铜网选区曝光制备山脊状结构 | 第42-47页 |
| 4.1.1 溶胀时间对山脊状结构的影响 | 第42-43页 |
| 4.1.2 铜网目数对山脊状结构的影响 | 第43-46页 |
| 4.1.3 铜网网格形状对山脊状结构的影响 | 第46-47页 |
| 4.2 铜网选区曝光和整体曝光制备山脊状结构 | 第47-51页 |
| 4.2.1 溶胀时间对山脊状结构的影响 | 第47-50页 |
| 4.2.2 铜网目数对山脊状结构的影响 | 第50-51页 |
| 4.3 本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 山脊状结构和皱纹共存的复合结构的制备 | 第52-60页 |
| 5.1 山脊状结构和皱纹共存的复合结构 | 第52-53页 |
| 5.2 P3HT薄膜厚度对皱纹的影响 | 第53-54页 |
| 5.3 正六边形的山脊状结构的边界对皱纹取向的影响 | 第54-55页 |
| 5.4 不同取向的山脊状结构的边界对皱纹的影响 | 第55-56页 |
| 5.5 不同的高分子薄膜对皱纹的影响 | 第56-57页 |
| 5.6 P3HT薄膜表面结构对光吸收和光发射的影响 | 第57-58页 |
| 5.7 本章小结 | 第58-60页 |
| 第6章 全文主要结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
