基于射频磁控溅射法的CoFeB薄膜制备及磁性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 磁学简介 | 第11-13页 |
| 1.2.1 磁性起源 | 第11-12页 |
| 1.2.2 材料的磁化 | 第12页 |
| 1.2.3 铁磁材料的分类 | 第12-13页 |
| 1.3 CoFeB薄膜的研究现状 | 第13-20页 |
| 1.3.1 磁隧道结 | 第14-17页 |
| 1.3.2 垂直磁各向异性 | 第17-18页 |
| 1.3.3 CoFeB薄膜的制备 | 第18-20页 |
| 1.4 论文主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 薄膜的制备及表征方法 | 第22-34页 |
| 2.1 薄膜的制备方式和生长过程 | 第22-24页 |
| 2.2 磁控溅射 | 第24-27页 |
| 2.2.1 磁控溅射原理 | 第24-26页 |
| 2.2.2 磁控溅射特点 | 第26-27页 |
| 2.3 薄膜制备 | 第27-30页 |
| 2.3.1 基本操作流程 | 第27-29页 |
| 2.3.2 典型问题及解决方法 | 第29-30页 |
| 2.4 薄膜的表征方法 | 第30-34页 |
| 2.4.1 X射线衍射 | 第30-31页 |
| 2.4.2 原子力显微镜 | 第31-32页 |
| 2.4.3 振动样品磁强计 | 第32-34页 |
| 第3章 CoFeB薄膜的制备工艺及磁性能研究 | 第34-49页 |
| 3.1 薄膜的制备工艺 | 第34-35页 |
| 3.2 CoFeB薄膜的制备及表征 | 第35-48页 |
| 3.2.1 溅射功率对薄膜性能的影响 | 第35-40页 |
| 3.2.2 溅射气压对薄膜性能的影响 | 第40-43页 |
| 3.2.3 溅射时间对薄膜性能的影响 | 第43-48页 |
| 3.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 退火处理对CoFeB薄膜性能的影响 | 第49-57页 |
| 4.1 CoFeB薄膜退火处理的工艺参数 | 第49-50页 |
| 4.2 退火处理对CoFeB薄膜晶相结构的影响 | 第50-51页 |
| 4.3 退火处理对CoFeB薄膜表面形貌的影响 | 第51-53页 |
| 4.4 退火处理对CoFeB薄膜磁性性能的影响 | 第53-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 总结 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第65页 |
