| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-22页 |
| 1.1 电容器 | 第8-11页 |
| 1.1.1 常规电容器分类 | 第8-9页 |
| 1.1.2 电容器的主要参数 | 第9-11页 |
| 1.2 铝电解电容器 | 第11-13页 |
| 1.2.1 铝电解电容器的制作过程 | 第11-12页 |
| 1.2.2 铝电解电容器的失效 | 第12-13页 |
| 1.3 电容器用铝箔 | 第13-15页 |
| 1.3.1 电容器用铝箔简介 | 第13-14页 |
| 1.3.2 电容器用铝箔的国内外研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4 薄膜的形成及生长机制 | 第15-16页 |
| 1.5 表面界面的动力学粗化理论 | 第16-20页 |
| 1.5.1 普适类、连续性生长方程 | 第17-18页 |
| 1.5.2 薄膜生长模型的实验研究 | 第18-19页 |
| 1.5.3 动力学标度分析薄膜生长的国内研究现状 | 第19-20页 |
| 1.6 本研究的内容及意义 | 第20-21页 |
| 1.6.1 本研究的内容 | 第20页 |
| 1.6.2 本研究的意义 | 第20-21页 |
| 1.7 本研究的技术路线 | 第21-22页 |
| 第二章 实验设备及方法 | 第22-28页 |
| 2.1 实验材料 | 第22页 |
| 2.2 实验前的预处理 | 第22页 |
| 2.3 实验设备 | 第22-26页 |
| 2.3.1 镀膜设备简介 | 第22-23页 |
| 2.3.2 原子力显微镜简介 | 第23-26页 |
| 2.4 TiC_xN_(1-x) 纳米薄膜的显微结构分析 | 第26页 |
| 2.5 TiC_xN_(1-x) 的比电容的测定 | 第26-28页 |
| 第三章 铝箔表面多弧离子镀TiC_xN_(1-x) 纳米薄膜的工艺研究 | 第28-35页 |
| 3.1 对比实验设计 | 第28-30页 |
| 3.1.1 工艺因素及水平的确定 | 第28-29页 |
| 3.1.2 对比试验表及试验工艺 | 第29-30页 |
| 3.2 对比实验结果及分析 | 第30-33页 |
| 3.3 最佳沉积工艺下TiC_xN_(1-x)薄膜的表面形貌及XRD 分析 | 第33-34页 |
| 3.4 最佳沉积工艺下TiC_xN_(1-x)涂层的AFM 形貌分析 | 第34-35页 |
| 第四章 铝箔表面TiC_xN_(1-x) 纳米薄膜的生长动力学研究 | 第35-46页 |
| 4.1 动力学标度分析方法 | 第35-37页 |
| 4.2 TiC_xN_(1-x)薄膜生长的动力学标度分析 | 第37-42页 |
| 4.3 不同偏压对TiC_xN_(1-x)薄膜粗糙度的影响 | 第42-44页 |
| 4.4 不同N_2 和C_2H_2流量比对TiC_xN_(1-x)薄膜粗糙度的影响 | 第44-46页 |
| 第五章 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 附录 | 第51页 |
