| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 前言 | 第9-20页 |
| 1.1 半导体光催化技术概述 | 第9页 |
| 1.2 提高光催化剂性能的主要途径 | 第9-13页 |
| 1.2.1 掺杂 | 第9-10页 |
| 1.2.1.1 金属元素掺杂 | 第10页 |
| 1.2.1.2 非金属元素掺杂 | 第10页 |
| 1.2.2 半导体复合 | 第10-11页 |
| 1.2.3 减小晶粒尺寸 | 第11页 |
| 1.2.4 半导体表面光敏化 | 第11-12页 |
| 1.2.5 负载 | 第12页 |
| 1.2.6 提高高能面的暴露度 | 第12-13页 |
| 1.3 晶面控制的新型光催化剂研究进展 | 第13-18页 |
| 1.3.1 控制晶面生长主要机理 | 第13-14页 |
| 1.3.1.1 自下而上的生长机理 | 第13-14页 |
| 1.3.1.2 自上而下的生长机理 | 第14页 |
| 1.3.2 暴露晶面光催化剂的研发 | 第14-17页 |
| 1.3.2.1 二氧化钛 | 第15页 |
| 1.3.2.2 溴氧化铋 | 第15-16页 |
| 1.3.2.3 钨酸铋 | 第16页 |
| 1.3.2.4 三氧化钨 | 第16-17页 |
| 1.3.3 暴露晶面光催化材料的修饰 | 第17-18页 |
| 1.4 本论文的选题依据及主要内容 | 第18-20页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第18-19页 |
| 1.4.2 主要的研究内容 | 第19页 |
| 1.4.3 论文特色与创新性 | 第19-20页 |
| 第二章 实验部分 | 第20-26页 |
| 2.1 主要的实验药品及仪器 | 第20-21页 |
| 2.1.1 主要的实验药品 | 第20-21页 |
| 2.1.2 主要实验仪器 | 第21页 |
| 2.2 主要表征方法 | 第21-24页 |
| 2.2.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第21页 |
| 2.2.2 紫外可见漫反射吸收光谱(UV-Vis DRS) | 第21-22页 |
| 2.2.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第22页 |
| 2.2.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第22页 |
| 2.2.5 透射电子显微镜(TEM) | 第22页 |
| 2.2.6 光电化学性能测试 | 第22-24页 |
| 2.2.6.1 FTO玻璃的清洗 | 第22-23页 |
| 2.2.6.2 工作电极的制备 | 第23页 |
| 2.2.6.3 光电流测试 | 第23-24页 |
| 2.3 光催化性能评价 | 第24-26页 |
| 2.3.1 光降解有机染料 | 第24页 |
| 2.3.2 选择性氧化苯甲醇 | 第24-26页 |
| 第三章 暴露(001)晶面BiOBr的助催化剂修饰及光催化性能研究 | 第26-47页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 Pt负载暴露(001)晶面BiOBr的制备与性能研究 | 第26-38页 |
| 3.2.1 暴露(001)晶面BiOBr的合成 | 第26-27页 |
| 3.2.2 BiOBr-001样品的修饰 | 第27页 |
| 3.2.3 晶体结构分析 | 第27-28页 |
| 3.2.4 晶体的形貌分析 | 第28-31页 |
| 3.2.5 光吸收性能分析 | 第31页 |
| 3.2.6 表面化学状态分析 | 第31-32页 |
| 3.2.7 光致发光光谱分析 | 第32-33页 |
| 3.2.8 光电化学测试 | 第33-34页 |
| 3.2.9 可见光选择性氧化苯甲醇的性能研究 | 第34-37页 |
| 3.2.10 反应机理研究 | 第37-38页 |
| 3.3 Au负载暴露(001)晶面BiOBr的制备与性能研究 | 第38-45页 |
| 3.3.1 Au负载暴露(001)晶面BiOBr的制备 | 第38页 |
| 3.3.2 晶体结构分析 | 第38-39页 |
| 3.3.3 晶体的形貌分析 | 第39-40页 |
| 3.3.4 光吸收性能分析 | 第40-41页 |
| 3.3.5 表面化学状态分析 | 第41-42页 |
| 3.3.6 光致发光光谱分析 | 第42-43页 |
| 3.3.7 光电流测试 | 第43-44页 |
| 3.3.8 性能研究 | 第44-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 暴露(001)晶面Bi_2WO_6的贵金属修饰及性能研究 | 第47-55页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 实验部分 | 第47-48页 |
| 4.2.1 超薄暴露(001)晶面Bi_2WO_6的合成 | 第47-48页 |
| 4.2.2 Pt修饰Bi_2WO_6-001超薄纳米片的制备 | 第48页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第48-54页 |
| 4.3.1 晶相结构分析 | 第48-49页 |
| 4.3.2 形貌分析 | 第49-50页 |
| 4.3.3 表面化学性质分析 | 第50-51页 |
| 4.3.4 光吸收性能 | 第51-52页 |
| 4.3.5 光催化性能研究 | 第52-54页 |
| 4.3.5.1 选择性氧化苯甲醇 | 第52-53页 |
| 4.3.5.2 降解染料罗丹明B | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 暴露(001)晶面WO_3光催化剂的贵金属修饰及性能研究 | 第55-68页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 实验部分 | 第55-56页 |
| 5.2.1 催化剂的制备 | 第55-56页 |
| 5.2.1.1 暴露高能面的WO_3样品的制备 | 第55-56页 |
| 5.2.1.2 贵金属修饰暴露高能面WO_3-001光催化剂的制备 | 第56页 |
| 5.3 暴露(001)晶面WO_3-001光催化剂的表征及性能研究 | 第56-67页 |
| 5.3.1 晶相结构分析 | 第56-57页 |
| 5.3.2 形貌分析 | 第57-60页 |
| 5.3.3 光吸收性能分析 | 第60-61页 |
| 5.3.4 光降解有机染料性能评价 | 第61-66页 |
| 5.3.4.1 贵金属修饰WO_3-001的光降解罗丹明B性能 | 第61-63页 |
| 5.3.4.2 不同修饰量Pt-WO_3-001的光降解罗丹明B活性 | 第63-64页 |
| 5.3.4.3 催化剂的活性稳定性研究 | 第64-66页 |
| 5.3.4.4 2%Pt-WO_3-001光催化降解甲基橙性能 | 第66页 |
| 5.3.5 选择性氧化苯甲醇性能研究 | 第66-67页 |
| 5.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 第六章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 6.1 结论 | 第68-69页 |
| 6.2 展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 个人简历 | 第80页 |
| 学术论文 | 第80页 |
