| 致谢 | 第9-10页 |
| 摘要 | 第10-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第23-54页 |
| 1.1 连续介质力学烧结理论的提出和发展 | 第23-25页 |
| 1.1.1 烧结概述 | 第23-24页 |
| 1.1.2 烧结理论研究历史及连续介质力学理论的建立 | 第24-25页 |
| 1.2 烧结参数测定 | 第25-32页 |
| 1.2.1 烧结参数介绍 | 第25-26页 |
| 1.2.2 测定单轴粘度的实验手段 | 第26-30页 |
| 1.2.3 粘性泊松比系数的实验测定 | 第30-31页 |
| 1.2.4 烧结参数的理论模拟 | 第31-32页 |
| 1.3 受约束烧结致密化行为 | 第32-36页 |
| 1.3.1 受约束烧结概述及分类 | 第32-33页 |
| 1.3.2 硬质基板约束厚膜烧结致密化行为 | 第33-34页 |
| 1.3.3 同质/异质厚膜叠层共烧致密化行为 | 第34-35页 |
| 1.3.4 包含硬质夹杂物的烧结致密化行为 | 第35页 |
| 1.3.5 密度不均匀样品的烧结致密化行为 | 第35-36页 |
| 1.4 各向异性连续介质力学方程的建立 | 第36-40页 |
| 1.4.1 受约束烧结中各向异性行为的发现 | 第36-37页 |
| 1.4.2 各向异性对受约束烧结致密化过程的影响 | 第37-38页 |
| 1.4.3 各向异性连续介质力学方程的建立和应用 | 第38-40页 |
| 1.5 LTCC厚膜烧结研究现状 | 第40-43页 |
| 1.5.1 LTCC工艺简介 | 第40-41页 |
| 1.5.2 LTCC厚膜材料零收缩烧结工艺 | 第41-42页 |
| 1.5.3 LTCC厚膜烧结致密化行为研究现状 | 第42-43页 |
| 1.6 论文选题背景与研究内容 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-54页 |
| 第二章 LTCC厚膜制备及烧结致密化数据测定 | 第54-67页 |
| 2.1 流延法简介 | 第54-55页 |
| 2.2 流延浆料的配制和工艺研究 | 第55-61页 |
| 2.2.1 流延陶瓷粉体 | 第55-56页 |
| 2.2.2 流延溶剂 | 第56页 |
| 2.2.3 分散剂的选择 | 第56-57页 |
| 2.2.4 粘结剂 | 第57页 |
| 2.2.5 增塑剂的选择 | 第57-58页 |
| 2.2.6 球磨时间 | 第58页 |
| 2.2.7 真空除气 | 第58页 |
| 2.2.8 厚膜的流延成型 | 第58-59页 |
| 2.2.9 流延浆料干燥过程研究 | 第59-60页 |
| 2.2.10 LTCC厚膜的流延制备 | 第60-61页 |
| 2.3 原位光学膨胀仪的搭建 | 第61-62页 |
| 2.4 烧结体烧结致密化行为的测定 | 第62-64页 |
| 2.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 第三章 LTCC厚膜各向同性烧结参数测定及激活能研究 | 第67-87页 |
| 3.1 研究背景介绍 | 第67-68页 |
| 3.2 LTCC厚膜垂直烧结的理论模型 | 第68-69页 |
| 3.3 实验过程 | 第69-73页 |
| 3.3.1 主要原料及实验设备 | 第69-70页 |
| 3.3.2 LTCC厚膜样品的制备 | 第70页 |
| 3.3.3 垂直烧结样品台的制作 | 第70-71页 |
| 3.3.4 实验过程 | 第71-72页 |
| 3.3.5 数据采集与处理 | 第72-73页 |
| 3.4 实验结果与分析 | 第73-82页 |
| 3.4.1 自由和垂直烧结LTCC厚膜的致密化行为 | 第73-76页 |
| 3.4.2 LTCC厚膜显微结构分析 | 第76-78页 |
| 3.4.3 LTCC厚膜单轴粘度的计算及理论模拟 | 第78-80页 |
| 3.4.4 LTCC厚膜单轴粘度激活能的分析 | 第80-82页 |
| 3.5 本章小结 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-87页 |
| 第四章 LTCC厚膜单轴加载约束烧结及各向异性烧结参数测定 | 第87-106页 |
| 4.1 引言 | 第87-88页 |
| 4.2 各向异性连续介质力学本构方程的推导 | 第88-89页 |
| 4.3 实验过程 | 第89-92页 |
| 4.3.1 单轴加载烧结实验样品制备 | 第89-90页 |
| 4.3.2 单轴加载烧结实验过程 | 第90页 |
| 4.3.3 厚膜样品微结构观测和定量分析 | 第90-92页 |
| 4.4 数据分析与讨论 | 第92-100页 |
| 4.4.1 LTCC厚膜单轴加载条件下烧结致密化行为分析 | 第92-95页 |
| 4.4.2 LTCC厚膜单轴加载条件下各向异性微结构演变 | 第95-97页 |
| 4.4.3 LTCC厚膜单轴烧结应力及各向异性烧结参数测定 | 第97-100页 |
| 4.5 本章小结 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-106页 |
| 第五章 硬质基板约束LTCC厚膜烧结致密化及连续介质力学模拟 | 第106-130页 |
| 5.1 引言 | 第106-107页 |
| 5.2 烧结激活能计算模型 | 第107-109页 |
| 5.2.1 阿伦尼乌斯方法 | 第107-108页 |
| 5.2.2 主烧结曲线方法(Master Sintering Curve) | 第108-109页 |
| 5.3 实验过程 | 第109-111页 |
| 5.3.1 厚膜样品的制备 | 第109-110页 |
| 5.3.2 实验过程及样品致密化数据采集 | 第110页 |
| 5.3.3 样品微结构观测 | 第110-111页 |
| 5.4 数据分析与讨论 | 第111-120页 |
| 5.4.1 基板约束厚膜烧结致密化行为 | 第111-113页 |
| 5.4.2 自由和基板约束厚膜烧结激活能研究 | 第113-116页 |
| 5.4.3 基板约束厚膜显微结构观测 | 第116-120页 |
| 5.5 基板约束厚膜烧结致密化行为连续介质力学模拟 | 第120-125页 |
| 5.6 本章小结 | 第125-126页 |
| 参考文献 | 第126-130页 |
| 第六章 柔性基板约束LTCC厚膜烧结致密化及连续介质力学模拟 | 第130-148页 |
| 6.1 引言 | 第130-131页 |
| 6.2 实验过程 | 第131-132页 |
| 6.2.1 柔性基板和厚膜样品的制备 | 第131页 |
| 6.2.2 实验过程及样品致密化数据采集 | 第131-132页 |
| 6.2.3 样品微结构观测 | 第132页 |
| 6.3 烧结致密化行为结果与分析 | 第132-135页 |
| 6.4 烧结致密化行为的连续介质力学模拟 | 第135-138页 |
| 6.5 受约束厚膜显微结构分析及柔性基板约束力计算 | 第138-142页 |
| 6.6 本章小结 | 第142-144页 |
| 参考文献 | 第144-148页 |
| 第七章 结论与展望 | 第148-151页 |
| 7.1 结论 | 第148-149页 |
| 7.2 展望 | 第149-151页 |
| 攻读博士学位期间的学术活动及成果情况 | 第151-152页 |
