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锗烯和锗量子点的能隙调控密度泛函研究

摘要第5-6页
Abstract第6页
第一章 低维锗材料简介第9-25页
    1.1 引言第9页
    1.2 锗烯简介第9-19页
        1.2.1 锗烯基本性质第10-11页
        1.2.2 锗烯的制备方法第11-15页
        1.2.3 锗烯的表面改性第15-19页
    1.3 锗量子点简介第19-23页
        1.3.1 锗量子点的基本性质第19-20页
        1.3.2 硼磷掺杂锗量子点的制备方法第20-22页
        1.3.3 锗量子点的掺杂研究第22-23页
    1.4 论文研究目的与内容第23-25页
第二章 密度泛函理论介绍第25-33页
    2.1 从头计算法第25-26页
    2.2 密度泛函理论(DFT)第26-29页
        2.2.1 局域密度近似(local-density approximation)第27-28页
        2.2.2 广义梯度近似第28-29页
    2.3 赝势平面波方法第29-30页
    2.4 本文计算工作的软件介绍第30-33页
        2.4.1 Materials Studio第30-31页
        2.4.2 Vienna Ab-initio Simulation Package(VASP)第31-33页
第三章 锗烯表面改性的密度泛函研究第33-39页
    3.1 引言第33页
    3.2 模型和计算方法第33-35页
    3.3 锗烯的密度泛函研究第35-38页
        3.3.1 氢钝化锗烯及表面改性锗烯的几何结构与稳定性第35-36页
        3.3.2 氢钝化锗烯及表面改性锗烯的电子结构第36-38页
    3.4 本章小结第38-39页
第四章 硼和磷掺杂锗量子点的密度泛函研究第39-57页
    4.1 引言第39-40页
    4.2 硼掺杂锗量子点的电子结构探究第40-46页
        4.2.1 模型与计算方法第40-42页
        4.2.2 结果与讨论第42-46页
    4.3 磷掺杂锗量子点的电子结构探究第46-50页
        4.3.1 模型与计算方法第46-47页
        4.3.2 结果与讨论第47-50页
    4.4 硼-磷共掺锗量子点的电子结构探究第50-56页
        4.4.1 模型和计算方法第50-52页
        4.4.2 结果与讨论第52-56页
    4.5 本章总结第56-57页
第五章 全文总结第57-59页
参考文献第59-65页
致谢第65-67页
个人简历第67-69页
攻读硕士学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果第69页

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