| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第13-41页 |
| 1.1 永磁材料的发展 | 第13-14页 |
| 1.2 烧结钕铁硼永磁材料的发展 | 第14-15页 |
| 1.3 烧结钕铁硼永磁材料的性能表征及其机理 | 第15-21页 |
| 1.3.1 稀土金属与过渡族金属间化合物的磁性 | 第15-16页 |
| 1.3.2 剩磁M_r或B_r | 第16-17页 |
| 1.3.3 矫顽力H_(cb)和H_(cj) | 第17-19页 |
| 1.3.4 磁能积 | 第19-21页 |
| 1.4 烧结钕铁硼永磁材料的显微结构 | 第21-31页 |
| 1.4.1 Nd_2Fe_(14)B主相 | 第22-25页 |
| 1.4.2 富Nd相 | 第25-27页 |
| 1.4.3 烧结钕铁硼永磁体的边界 | 第27-31页 |
| 1.5 烧结钕铁硼永磁体的制备技术 | 第31-35页 |
| 1.5.1 速凝带技术 | 第31-32页 |
| 1.5.2 氢破碎和气流磨制粉 | 第32页 |
| 1.5.3 脉冲磁场取向与橡皮模等静压成型 | 第32-33页 |
| 1.5.4 烧结技术 | 第33页 |
| 1.5.5 双合金工艺 | 第33页 |
| 1.5.6 晶粒的细化和无压烧结 | 第33-34页 |
| 1.5.7 晶界扩散 | 第34-35页 |
| 1.6 爆炸去磁脉冲功率源的研究与发展 | 第35-37页 |
| 1.6.1 爆炸去磁脉冲功率源以及在国外的发展 | 第35-37页 |
| 1.6.2 国内在爆炸去磁方面的研究 | 第37页 |
| 1.7 论文选题意义、目的与研究内容 | 第37-41页 |
| 1.7.1 论文的研究意义 | 第37-38页 |
| 1.7.2 论文的研究目的 | 第38-39页 |
| 1.7.3 论文研究的内容 | 第39页 |
| 1.7.4 论文研究的具体技术路线 | 第39-41页 |
| 第2章 实验过程与测量技术 | 第41-53页 |
| 2.1 烧结钕铁硼磁体的制备 | 第41-47页 |
| 2.1.1 配制原料 | 第41页 |
| 2.1.2 速凝带熔炼 | 第41-42页 |
| 2.1.3 氢破碎处理 | 第42-43页 |
| 2.1.4 气流磨制粉 | 第43-44页 |
| 2.1.5 全封闭式成型 | 第44页 |
| 2.1.6 冷等静压 | 第44-45页 |
| 2.1.7 真空烧结 | 第45页 |
| 2.1.8 回火热处理 | 第45-46页 |
| 2.1.9 切削加工 | 第46页 |
| 2.1.10 扫描电子显微镜试样的准备 | 第46-47页 |
| 2.1.11 透射电子显微镜试样的准备 | 第47页 |
| 2.2 烧结钕铁硼磁体在爆炸脉冲功率源上的应用 | 第47页 |
| 2.3 测量技术 | 第47-51页 |
| 2.3.1 粉末粒径测试 | 第48页 |
| 2.3.2 密度 | 第48-49页 |
| 2.3.3 氧含量 | 第49页 |
| 2.3.4 磁性能 | 第49-50页 |
| 2.3.5 振动样品磁强计 | 第50-51页 |
| 2.4 显微组织观察与结构分析 | 第51-53页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析 | 第51页 |
| 2.4.2 光学显微镜观察 | 第51页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜及能谱分析 | 第51-52页 |
| 2.4.4 透射电子显微镜及能谱分析 | 第52-53页 |
| 第3章 低镝烧结钕铁硼磁体关键制备工艺研究 | 第53-77页 |
| 3.1 引言 | 第53页 |
| 3.2 高性能磁体的制备 | 第53-58页 |
| 3.2.1 高磁能积磁体的制备 | 第53-56页 |
| 3.2.2 含重稀土磁体的制备 | 第56-58页 |
| 3.3 晶界厚度对含重稀土磁体的影响 | 第58-64页 |
| 3.3.1 实验过程和测试方法 | 第58-59页 |
| 3.3.2 磁体的磁性能 | 第59-60页 |
| 3.3.3 利用SEM对磁体微观形貌的观测 | 第60-62页 |
| 3.3.4 矫顽力增强机制的探讨 | 第62-64页 |
| 3.4 晶粒异常长大及低成本磁体工艺制度的开发 | 第64-72页 |
| 3.4.1 引言 | 第64页 |
| 3.4.2 烧结温度过高导致的晶粒异常长大 | 第64-67页 |
| 3.4.3 杂质导致的晶粒异常长大 | 第67-68页 |
| 3.4.4 氧化物颗粒较多导致的晶粒异常长大 | 第68-72页 |
| 3.5 低成本磁体工艺制度的开发 | 第72-76页 |
| 3.5.1 低镝低成本磁体工艺制度 | 第72-73页 |
| 3.5.2 低成本磁体工艺制度在高矫顽力磁体制备上的应用 | 第73-76页 |
| 3.6 本章结论 | 第76-77页 |
| 第4章 双主相烧结钕铁硼磁体与可控制备 | 第77-107页 |
| 4.1 引言 | 第77-78页 |
| 4.2 双主相磁体的微观结构和磁性能的关联 | 第78-83页 |
| 4.2.1 磁体制备与测试 | 第78页 |
| 4.2.2 磁体的磁性能 | 第78-79页 |
| 4.2.3 磁体SEM微观形貌分析 | 第79-81页 |
| 4.2.4 磁体TEM微观结构分析 | 第81-83页 |
| 4.3 烧结钕铁硼磁体的可控制备与微观结构 | 第83-99页 |
| 4.3.1 磁体制备与测试 | 第83-84页 |
| 4.3.2 镝含量对速凝带微观形貌的影响 | 第84-85页 |
| 4.3.3 镝含量对气流磨粉末粒度的影响 | 第85-86页 |
| 4.3.4 不同镝含量对磁体性能的影响 | 第86-87页 |
| 4.3.5 磁体SEM微观形貌分析 | 第87-90页 |
| 4.3.6 磁体粉末XRD分析 | 第90-91页 |
| 4.3.7 磁体TEM微观结构分析 | 第91-94页 |
| 4.3.8 双主相磁体矫顽力增强机制的探讨 | 第94-99页 |
| 4.4 烧结钕铁硼磁体边界相的调控技术机理 | 第99-106页 |
| 4.4.1 引言 | 第99-100页 |
| 4.4.2 实验过程和测试方法 | 第100-101页 |
| 4.4.3 不同粒径磁粉的分布 | 第101-102页 |
| 4.4.4 磁体的磁性能 | 第102-103页 |
| 4.4.5 对磁体微观结构的观测与分析 | 第103-106页 |
| 4.5 本章结论 | 第106-107页 |
| 第5章 烧结钕铁硼磁体在爆炸脉冲功率源中的应用 | 第107-123页 |
| 5.1 研究背景 | 第107页 |
| 5.2 实验原理 | 第107-109页 |
| 5.3 冲击波加载烧结钕铁硼磁体 | 第109-116页 |
| 5.3.1 冲击比在烧结钕铁硼磁体中的衰减 | 第109-111页 |
| 5.3.2 磁体SEM微观形貌分析 | 第111-113页 |
| 5.3.3 XRD分析 | 第113-116页 |
| 5.4 烧结钕铁硼磁体冲击退磁机理 | 第116-120页 |
| 5.4.1 冲击前后磁体的VSM分析 | 第116-119页 |
| 5.4.2 经回火处理后磁体的微观结构分析 | 第119-120页 |
| 5.5 提高功率源磁能转化效率的磁体的选用 | 第120-122页 |
| 5.6 本章结论 | 第122-123页 |
| 第6章 结论 | 第123-125页 |
| 后期研究展望 | 第125-126页 |
| 参考文献 | 第126-139页 |
| 致谢 | 第139-140页 |
| 攻读博士期间承担的科研任务及主要成果 | 第140-143页 |
| 作者从事科学研究和学习经历的简历 | 第143页 |