| 摘要 | 第6-9页 |
| ABSTRACT | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第16-28页 |
| 1.1 研究背景与选题意义 | 第16-17页 |
| 1.2 光扩散材料 | 第17-21页 |
| 1.2.1 光扩散原理 | 第17-18页 |
| 1.2.2 光扩散剂 | 第18-19页 |
| 1.2.3 光扩散 PC（聚碳酸酯） | 第19-20页 |
| 1.2.3.1 PC 在 LED 领域的应用 | 第19页 |
| 1.2.3.2 光扩散 PC 板 | 第19-20页 |
| 1.2.4 PC 用光扩散涂层材料 | 第20-21页 |
| 1.3 PC 表面增硬涂层材料 | 第21-25页 |
| 1.3.1 有机-无机杂化涂层材料的制备 | 第22页 |
| 1.3.2 溶胶-凝胶法 | 第22-23页 |
| 1.3.3 溶胶-凝胶法制备增硬涂层材料的研究进展 | 第23-25页 |
| 1.4 UV 光固化技术 | 第25-26页 |
| 1.4.1 UV 光固化涂料 | 第25页 |
| 1.4.2 UV 光固化涂料组成成分 | 第25-26页 |
| 1.5 课题的提出及主要研究内容 | 第26-28页 |
| 1.5.1 课题的提出 | 第26页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 纳米粒子/活性稀释剂分散液的制备 | 第28-45页 |
| 2.1 引言 | 第28页 |
| 2.2 实验试剂与仪器 | 第28-30页 |
| 2.2.1 主要试剂 | 第28-29页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第29-30页 |
| 2.3 实验方法 | 第30-32页 |
| 2.3.1 SiO_2/活性稀释剂分散液制备 | 第30页 |
| 2.3.1.1 基于醇相硅溶胶的分散液制备 | 第30页 |
| 2.3.1.2 基于水相硅溶胶的分散液制备 | 第30页 |
| 2.3.2 ZrO_2/活性稀释剂分散液制备 | 第30-31页 |
| 2.3.2.1 基于醇相锆溶胶的分散液制备 | 第30-31页 |
| 2.3.2.2 基于水相锆溶胶的分散液制备 | 第31页 |
| 2.3.3 Al_2O_3/活性稀释剂分散液制备 | 第31页 |
| 2.3.3.1 醇相铝溶胶的改性 | 第31页 |
| 2.3.3.2 基于醇相铝溶胶的分散液的制备 | 第31页 |
| 2.3.4 表征方法 | 第31-32页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第32-44页 |
| 2.4.1 基于醇相硅溶胶的分散液制备 | 第32-39页 |
| 2.4.1.1 反应条件对改性硅溶胶稳定性的影响 | 第32-33页 |
| 2.4.1.2 硅烷偶联剂对分散液稳定性的影响 | 第33-36页 |
| 2.4.1.3 稀释剂种类对分散液稳定性的影响 | 第36-37页 |
| 2.4.1.4 SiO_2含量对分散液稳定性的影响 | 第37-38页 |
| 2.4.1.5 分散液表观 | 第38-39页 |
| 2.4.2 基于水相硅溶胶的分散液制备 | 第39-43页 |
| 2.4.2.1 反应温度对改性硅溶胶稳定性的影响 | 第39页 |
| 2.4.2.2 反应时间对改性硅溶胶稳定性的影响 | 第39-40页 |
| 2.4.2.3 溶剂种类及用量对改性硅溶胶稳定性的影响 | 第40-42页 |
| 2.4.2.4 pH 值对改性硅溶胶稳定性的影响 | 第42-43页 |
| 2.4.3 溶胶种类对分散液稳定性的影响 | 第43-44页 |
| 2.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 有机-无机杂化增硬涂层材料制备及性能研究 | 第45-65页 |
| 3.1 引言 | 第45页 |
| 3.2 实验试剂与仪器 | 第45-47页 |
| 3.2.1 主要试剂 | 第45-46页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第46-47页 |
| 3.3 实验方法 | 第47-49页 |
| 3.3.1 PC 基板表面处理 | 第47页 |
| 3.3.2 有机-无机杂化增硬涂层的制备 | 第47-48页 |
| 3.3.3 表征方法 | 第48-49页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第49-63页 |
| 3.4.1 有机组分对涂层性能的影响 | 第49-54页 |
| 3.4.1.1 齐聚物种类对涂层性能的影响 | 第49-52页 |
| 3.4.1.2 活性稀释剂种类对涂层性能的影响 | 第52-53页 |
| 3.4.1.3 齐聚物与活性稀释剂比例对涂层性能的影响 | 第53-54页 |
| 3.4.2 无机组分对涂层性能的影响 | 第54-63页 |
| 3.4.2.1 硅烷偶联剂种类对涂层性能的影响 | 第54-59页 |
| 3.4.2.2 硅烷偶联剂用量对涂层性能的影响 | 第59-61页 |
| 3.4.2.3 SiO_2含量对涂层性能的影响 | 第61-63页 |
| 3.5 本章小结 | 第63-65页 |
| 第四章 UV 固化光扩散涂层材料及其制备方法 | 第65-86页 |
| 4.1 引言 | 第65页 |
| 4.2 实验试剂与仪器 | 第65-67页 |
| 4.2.1 主要试剂 | 第65-66页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第66-67页 |
| 4.3 实验方法 | 第67-69页 |
| 4.3.1 PC 基板表面处理 | 第67页 |
| 4.3.2 光扩散涂层制备 | 第67页 |
| 4.3.3 性能测试与表征 | 第67-69页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第69-84页 |
| 4.4.1 丙烯酸树脂类光扩散剂对涂层性能的影响 | 第69-74页 |
| 4.4.1.1 多分散型 MR 系列光扩散剂对涂层性能的影响 | 第69-71页 |
| 4.4.1.2 单分散型 MX 系列光扩散剂对涂层性能的影响 | 第71-72页 |
| 4.4.1.3 光扩散剂粒径及粒径分布对涂层光学性能的影响 | 第72-74页 |
| 4.4.1.4 丙烯酸树脂类光扩散剂对涂层机械性能的影响 | 第74页 |
| 4.4.2 无机型光扩散剂 Nano-CaCO_3对涂层性能的影响 | 第74-77页 |
| 4.4.2.1 无机型光扩散剂 Nano-CaCO_3对涂层光学性能的影响 | 第75-76页 |
| 4.4.2.2 光扩散剂 Nano-CaCO_3含量对涂层机械性能的影响 | 第76-77页 |
| 4.4.3 有机硅型光扩散剂 KMP-590 对涂层性能的影响 | 第77-79页 |
| 4.4.3.1 光扩散剂 KMP-590 含量对涂层光学性能的影响 | 第78页 |
| 4.4.3.2 光扩散剂 KMP-590 含量对涂层机械性能的影响 | 第78-79页 |
| 4.4.4 光扩散剂形貌对涂层性能的影响 | 第79-82页 |
| 4.4.4.1 光扩散剂形貌分类 | 第79-80页 |
| 4.4.4.2 光扩散剂形貌对涂层光学性能的影响 | 第80-82页 |
| 4.4.4.3 光扩散剂形貌对涂层耐磨性能的影响 | 第82页 |
| 4.4.5 SiO_2/HDDA 分散液对涂层性能的影响 | 第82-84页 |
| 4.4.5.1 SiO_2/HDDA 分散液对涂层耐磨性能的影响 | 第83-84页 |
| 4.4.5.2 SiO_2/HDDA 分散液对涂层光学性能的影响 | 第84页 |
| 4.5 本章小结 | 第84-86页 |
| 第五章 全文总结 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-93页 |
| 作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第93-94页 |
| 致谢 | 第94页 |
