| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 前言 | 第9页 |
| 1.2 ZnO 的基本性质及应用 | 第9-11页 |
| 1.3 磁控溅射方法制备 ZnO 薄膜的研究现状 | 第11-14页 |
| 1.4 溶液法制备 ZnO 纳米结构的研究现状及存在问题 | 第14-16页 |
| 1.4.1 ZnO 纳米结构的研究 | 第14-15页 |
| 1.4.2 ZnO 中存在的问题 | 第15-16页 |
| 1.5 本征和掺杂 ZnO 纳米材料的研究 | 第16-19页 |
| 1.5.1 n 型 ZnO 纳米材料的研究 | 第16页 |
| 1.5.2 p 型 ZnO 纳米材料的研究 | 第16-17页 |
| 1.5.3 Cu 掺杂 ZnO 纳米材料的研究 | 第17-18页 |
| 1.5.4 其它元素掺杂 ZnO 纳米材料的研究 | 第18-19页 |
| 1.6 本文研究目的与主要研究内容 | 第19-20页 |
| 1.6.1 本文研究目的 | 第19页 |
| 1.6.2 主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 试验材料、设备及方法 | 第20-26页 |
| 2.1 试验材料 | 第20页 |
| 2.2 试验设备 | 第20-22页 |
| 2.2.1 ZnO 薄膜制备装置 | 第20-21页 |
| 2.2.3 ZnO 纳米材料制备装置 | 第21-22页 |
| 2.3.试验方案 | 第22-24页 |
| 2.3.1 试验参数设计 | 第22-23页 |
| 2.3.2 试验工艺流程本征 | 第23-24页 |
| 2.4 ZnO 材料的测试与表征 | 第24-26页 |
| 2.4.1 材料的形貌分析 | 第24-25页 |
| 2.4.2 材料的结构分析 | 第25页 |
| 2.4.3 材料的性能分析 | 第25-26页 |
| 第三章 ZnO 薄膜的制备与性能研究 | 第26-35页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 薄膜衬底的选择与处理 | 第26-27页 |
| 3.3 ZnO 薄膜的制备与表征 | 第27页 |
| 3.4 不同生长条件对 ZnO 薄膜的影响研究 | 第27-33页 |
| 3.4.1 生长时间对 ZnO 薄膜及纳米阵列的影响 | 第27-31页 |
| 3.4.2 生长温度对 ZnO 薄膜及纳米阵列的影响 | 第31-33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-35页 |
| 第四章 ZnO 纳米柱阵列的水热法制备与性能研究 | 第35-49页 |
| 4.1 引言 | 第35页 |
| 4.2 ZnO 纳米柱阵列的水热法制备与表征 | 第35页 |
| 4.3 不同生长条件对 ZnO 纳米柱阵列的影响研究 | 第35-43页 |
| 4.3.1 生长时间对 ZnO 纳米柱阵列形貌、结构和性能的影响 | 第36-40页 |
| 4.3.2 生长温度对 ZnO 纳米柱阵列形貌、结构和性能的影响 | 第40-43页 |
| 4.4 退火处理对 ZnO 纳米柱阵列的影响研究 | 第43-47页 |
| 4.5 ZnO 纳米材料的形成机理分析 | 第47-48页 |
| 4.6 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 Zn1-xCuxO 纳米材料的水热法制备与性能研究 | 第49-67页 |
| 5.1 引言 | 第49页 |
| 5.2 Zn1-xCuxO 纳米材料的水热法制备与表征 | 第49-50页 |
| 5.3 Cu 掺杂浓度对 ZnO 纳米材料的形貌、结构和性能的影响研究 | 第50-58页 |
| 5.4 生长时间对 Zn1-xCuxO 纳米材料的影响研究 | 第58-63页 |
| 5.5 退火处理对 Zn1-xCuxO 纳米结构性能的影响研究 | 第63-65页 |
| 5.5.1 退火温度对 Zn1-xCuxO 纳米材料光学性能的影响 | 第63-64页 |
| 5.5.2 退火气氛对 Zn1-xCuxO 纳米材料光学性能的影响 | 第64-65页 |
| 5.6 本章小结 | 第65-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
