离子聚合物金属复合材料驱动性能优化研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第14-28页 |
1.1 引言 | 第14-15页 |
1.2 IPMC材料简介 | 第15-17页 |
1.2.1 IPMC基底材料 | 第15-16页 |
1.2.2 IPMC电极 | 第16页 |
1.2.3 IPMC特性 | 第16-17页 |
1.3 IPMC致动机理 | 第17页 |
1.4 IPMC的改性研究 | 第17-23页 |
1.4.1 IPMC基底膜改进研究 | 第18-20页 |
1.4.2 IPMC工作介质的优化 | 第20-21页 |
1.4.3 基底膜表面处理 | 第21-23页 |
1.5 IPMC的应用研究 | 第23-26页 |
1.6 本文课题来及主要工作 | 第26-28页 |
1.6.1 课题来源 | 第26页 |
1.6.2 课题研究意义 | 第26-27页 |
1.6.3 本文主要研究工作 | 第27-28页 |
第二章 碳纳米笼掺杂的IPMC制备和性能测试 | 第28-47页 |
2.1 实验原理 | 第28-29页 |
2.2 实验材料及设备 | 第29-30页 |
2.2.1 实验试剂 | 第29-30页 |
2.2.2 实验仪器 | 第30页 |
2.3 实验步骤 | 第30-33页 |
2.3.1 浇铸NCNCs掺杂的Nafion膜 | 第30-31页 |
2.3.2 基底膜的表面粗化 | 第31-32页 |
2.3.3 离子吸附 | 第32页 |
2.3.4 主化学镀反应 | 第32页 |
2.3.5 次化学镀反应 | 第32-33页 |
2.3.6 离子交换 | 第33页 |
2.4 基底膜性能测试 | 第33-40页 |
2.4.1 基底膜XRD测试 | 第33-34页 |
2.4.2 基底膜红外测试 | 第34页 |
2.4.3 基底膜拉伸性能测试 | 第34-36页 |
2.4.4 基底膜离子交换当量测试 | 第36-39页 |
2.4.4.1 氢氧化钠溶液的配制与标定 | 第36-37页 |
2.4.4.2 盐酸溶液的配制与标定 | 第37-38页 |
2.4.4.3 基底膜离子交换当量测试 | 第38-39页 |
2.4.5 基底膜含水量测试 | 第39-40页 |
2.5 IPMC性能测试 | 第40-45页 |
2.5.1 测试平台简介 | 第40-41页 |
2.5.2 不同碳材料的分散性测试 | 第41-42页 |
2.5.3 碳纳米笼及IPMC微观形貌测试 | 第42-43页 |
2.5.4 IPMC输出位移测试 | 第43-44页 |
2.5.5 IPMC输出力测试 | 第44-45页 |
2.6 本章小结 | 第45-47页 |
第三章 多孔基底膜的制备及IPMC工作介质的优化 | 第47-57页 |
3.1 离子液型IPMC致动机理 | 第47-48页 |
3.2 多孔基底膜的制备及测试 | 第48-50页 |
3.2.1 实验材料 | 第48页 |
3.2.2 多孔基底膜制备 | 第48-49页 |
3.2.3 多孔基底膜的SEM测试 | 第49-50页 |
3.2.4 基底膜红外测试 | 第50页 |
3.3 离子液体作为介质的IPMC制备 | 第50-51页 |
3.4 IPMC驱动性能测试 | 第51-56页 |
3.4.1 离子液体的吸收率 | 第51-52页 |
3.4.2 多孔结构对IPMC性能的影响 | 第52页 |
3.4.3 IPMC工作介质优化结果 | 第52-56页 |
3.4.3.1 IPMC离水工作时间延长 | 第52-54页 |
3.4.3.2 IPMC位移回复现象改善 | 第54-56页 |
3.5 本章小结 | 第56-57页 |
第四章 表面粗化处理对IPMC驱动性能的影响 | 第57-68页 |
4.1 实验材料 | 第57页 |
4.2 表面粗化装置 | 第57-58页 |
4.3 表面粗化处理及IPMC制备 | 第58-60页 |
4.3.1 基底膜手工粗化 | 第58页 |
4.3.2 基底膜机械粗化 | 第58-59页 |
4.3.3 IPMC的制备 | 第59-60页 |
4.4 基底膜性能测试 | 第60-61页 |
4.4.1 基底膜形貌测试 | 第60页 |
4.4.2 基底膜粗糙度测试 | 第60-61页 |
4.5 IPMC驱动性能测试 | 第61-67页 |
4.5.1 IPMC表面及断面形貌测试 | 第61-63页 |
4.5.2 IPMC表面电阻测试 | 第63-64页 |
4.5.3 驱动性能分析 | 第64-67页 |
4.6 本章小结 | 第67-68页 |
第五章 结论与展望 | 第68-71页 |
5.1 本文主要工作及结论 | 第68-69页 |
5.2 展望 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第79页 |