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石墨烯的CVD制备及其基于铁电陶瓷极化的导电性能调控

摘要第4-5页
Abstract第5页
1 绪论第8-18页
    1.1 石墨烯简介第8-10页
    1.2 石墨烯的制备技术第10-12页
    1.3 石墨烯的导电性能调控第12-16页
    1.4 石墨烯光电器件第16-17页
    1.5 本文的研究内容第17-18页
2 大面积多层石墨烯薄膜的制备第18-29页
    2.1 Cu箔基底对石墨烯成膜质量的研究第18-22页
    2.2 气体工艺参数对石墨烯生长的影响第22-25页
    2.3 生长时间对石墨烯生长的影响第25-26页
    2.4 优化后的多层石墨烯薄膜的制备工艺第26-28页
    2.5 本章小结第28-29页
3 单层石墨烯的制备及性能研究第29-38页
    3.1 单层石墨烯的制备工艺第29-31页
    3.2 石墨烯的转移工艺第31-33页
    3.3 石墨烯的结构和性能表征第33-37页
    3.4 本章小结第37-38页
4 PZT陶瓷表面石墨烯的导电性能调控第38-45页
    4.1 PZT及其电极化特性第38页
    4.2 石墨烯/(Cu/Ni)/PZT/Ag夹层结构的制备第38-42页
    4.3 极化对石墨烯导电性能的调控第42-44页
    4.4 本章小结第44-45页
5 总结与展望第45-47页
    5.1 全文总结第45-46页
    5.2 工作展望第46-47页
致谢第47-48页
参考文献第48-52页
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文第52页

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