摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
1 绪论 | 第8-18页 |
1.1 石墨烯简介 | 第8-10页 |
1.2 石墨烯的制备技术 | 第10-12页 |
1.3 石墨烯的导电性能调控 | 第12-16页 |
1.4 石墨烯光电器件 | 第16-17页 |
1.5 本文的研究内容 | 第17-18页 |
2 大面积多层石墨烯薄膜的制备 | 第18-29页 |
2.1 Cu箔基底对石墨烯成膜质量的研究 | 第18-22页 |
2.2 气体工艺参数对石墨烯生长的影响 | 第22-25页 |
2.3 生长时间对石墨烯生长的影响 | 第25-26页 |
2.4 优化后的多层石墨烯薄膜的制备工艺 | 第26-28页 |
2.5 本章小结 | 第28-29页 |
3 单层石墨烯的制备及性能研究 | 第29-38页 |
3.1 单层石墨烯的制备工艺 | 第29-31页 |
3.2 石墨烯的转移工艺 | 第31-33页 |
3.3 石墨烯的结构和性能表征 | 第33-37页 |
3.4 本章小结 | 第37-38页 |
4 PZT陶瓷表面石墨烯的导电性能调控 | 第38-45页 |
4.1 PZT及其电极化特性 | 第38页 |
4.2 石墨烯/(Cu/Ni)/PZT/Ag夹层结构的制备 | 第38-42页 |
4.3 极化对石墨烯导电性能的调控 | 第42-44页 |
4.4 本章小结 | 第44-45页 |
5 总结与展望 | 第45-47页 |
5.1 全文总结 | 第45-46页 |
5.2 工作展望 | 第46-47页 |
致谢 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-52页 |
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第52页 |