| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 引言 | 第11-14页 |
| 1 等离子体与物理气相沉积 | 第14-50页 |
| 1.1 等离子体特点及分类 | 第14-15页 |
| 1.2 等离子体产生方式 | 第15-18页 |
| 1.3 低温等离子体的应用 | 第18-20页 |
| 1.4 电工钢与绝缘膜制备工艺及其特性 | 第20-35页 |
| 1.4.1 电工钢的性能要求 | 第20-27页 |
| 1.4.2 电工钢制备工艺流程 | 第27-30页 |
| 1.4.3 绝缘膜种类及特性 | 第30-35页 |
| 1.5 等离子体诊断 | 第35-45页 |
| 1.5.1 静电探针 | 第35-40页 |
| 1.5.2 光谱诊断 | 第40-45页 |
| 1.6 物理气相沉积技术 | 第45-47页 |
| 1.7 等离子体磁控溅射镀膜技术的研究 | 第47-49页 |
| 1.8 本章小结 | 第49-50页 |
| 2 大型真空磁控溅射等离子体的控制模型 | 第50-63页 |
| 2.1 等离子体的动力学过程 | 第50-54页 |
| 2.2 产生电子-离子对所需能量 | 第54页 |
| 2.3 离子对阴极表面的溅射能量 | 第54-55页 |
| 2.4 磁场与粒子能量 | 第55页 |
| 2.5 等离子体对扰动的响应时间 | 第55-59页 |
| 2.6 控制模型的建立 | 第59-61页 |
| 2.7 本章小结 | 第61-63页 |
| 3 大型真空磁控溅射镀膜装备溅射放电的工作特性 | 第63-77页 |
| 3.1 气体放电伏安特性曲线 | 第63-65页 |
| 3.2 溅射放电的极间电位、场强、电荷密度分布 | 第65-66页 |
| 3.3 大型真空磁控溅射镀膜装备离子的产生与外加电压以及电场强度的关系 | 第66-70页 |
| 3.4 气体点燃电压zU与气压P和极间距离d的关系 | 第70-75页 |
| 3.5 本章小结 | 第75-77页 |
| 4 大型真空磁控溅射镀膜装备空间磁场的产生及其分布 | 第77-95页 |
| 4.1 电磁场对等离子体中电子的作用 | 第77-79页 |
| 4.2 大型真空磁控溅射镀膜装备空间磁场计算 | 第79-85页 |
| 4.3 磁介质分界面上的边界条件 | 第85-87页 |
| 4.4 大型真空磁控溅射镀膜装备空间磁场仿真分布 | 第87-91页 |
| 4.5 大型真空磁控溅射镀膜装备空间磁场分布对电工薄膜制备的影响 | 第91-93页 |
| 4.6 本章小结 | 第93-95页 |
| 5 模糊PI控制真空磁控溅射装备制备电工薄膜 | 第95-127页 |
| 5.1 数字PI参数的整定 | 第96-97页 |
| 5.2 PI控制参数在线自适应整定 | 第97-115页 |
| 5.2.1 典型输入信号和时域性能指标 | 第97-100页 |
| 5.2.2 PID控制参数在线自适应整定的稳定及优化逆向判据 | 第100-104页 |
| 5.2.3 利用模糊控制技术实现PI控制参数在线自适应整定 | 第104-106页 |
| 5.2.4 仿真分析 | 第106-115页 |
| 5.3 模糊PI控制镀膜机运行及电工薄膜制备 | 第115-117页 |
| 5.4 磁控溅射制备电工薄膜结果分析 | 第117-125页 |
| 5.4.1 磁控溅射掺硅结果分析 | 第117-119页 |
| 5.4.2 磁控溅射沉积氮化硅绝缘膜结果分析 | 第119-121页 |
| 5.4.3 磁控溅射XRD图谱 | 第121-125页 |
| 5.5 本章小结 | 第125-127页 |
| 结论 | 第127-129页 |
| 致谢 | 第129-130页 |
| 参考文献 | 第130-135页 |
| 附录A 采用钕铁硼磁极空间磁场分布Poisson Superfish软件仿真程序 | 第135-137页 |
| 附录B 内侧磁极用工业纯铁外侧磁极用钕铁硼的空间磁场分布Poisson Superfish软件仿真程序 | 第137-139页 |
| 附录C 内侧磁极用钕铁硼外侧磁极用工业纯铁的空间磁场分布Poisson Superfish软件仿真程序 | 第139-141页 |
| 附录D 外侧磁极强于内侧磁极的钕铁硼空间磁场分布Poisson Superfish软件仿真程序 | 第141-143页 |
| 附录E 内侧磁极强于外侧磁极的钕铁硼空间磁场分布Poisson Superfish软件仿真程序 | 第143-145页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第145-146页 |
