| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 ZnO晶体结构与性质 | 第11-14页 |
| 1.1.1 ZnO晶体结构 | 第11-12页 |
| 1.1.2 ZnO能带结构 | 第12-13页 |
| 1.1.3 ZnO电学性质 | 第13页 |
| 1.1.4 ZnO光学特性 | 第13页 |
| 1.1.5 ZnO压电特性 | 第13-14页 |
| 1.1.6 ZnO气敏特性 | 第14页 |
| 1.2 ZnO的应用 | 第14-16页 |
| 1.2.1 光电领域 | 第14-15页 |
| 1.2.2 压电及声表面波器件 | 第15页 |
| 1.2.3 气敏元件 | 第15页 |
| 1.2.4 其它应用 | 第15-16页 |
| 1.3 ZnO材料的研究进展及现状 | 第16-18页 |
| 1.3.1 ZnO薄膜外延生长研究 | 第16页 |
| 1.3.2 ZnO纳米结构研究 | 第16-17页 |
| 1.3.3 p型ZnO薄膜研究 | 第17-18页 |
| 1.3.4 掺杂对ZnO薄膜的多种特性进行进一步改善研究 | 第18页 |
| 1.4 本课题的立题依据、研究内容、创新点 | 第18-21页 |
| 1.4.1 本课题立题依据 | 第18-19页 |
| 1.4.2 本课题主要研究内容 | 第19页 |
| 1.4.3 本课题创新点 | 第19-21页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备技术与表征 | 第21-27页 |
| 2.1 常用的制备技术介绍 | 第21-24页 |
| 2.1.1 磁控溅射法 | 第21-23页 |
| 2.1.2 分子束外延法（MBE） | 第23页 |
| 2.1.3 脉冲激光溅射沉积法（PLD） | 第23页 |
| 2.1.4 化学气相淀积法（CVD） | 第23-24页 |
| 2.1.5 溶胶一凝胶法 | 第24页 |
| 2.2 常用的表征方法介绍 | 第24-27页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 (XRD) | 第24-25页 |
| 2.2.2 原子力显微镜 | 第25-26页 |
| 2.2.3 紫外可见光分光光度计（UV-vis spectrophotometer） | 第26页 |
| 2.2.4 光致发光谱（PL） | 第26-27页 |
| 第三章 磁控溅射法制备ZnO薄膜及其微观结构与光学特性研究 | 第27-62页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 实验样品ZnO膜的生长 | 第27-29页 |
| 3.2.1 衬底清洗准备 | 第27-28页 |
| 3.2.2 磁控溅射简易实验过程 | 第28-29页 |
| 3.3 氩氧比对ZnO薄膜的光学特性影响 | 第29-35页 |
| 3.3.1 XRD分析 | 第29-31页 |
| 3.3.2 吸收光谱（Abs）与透射率（T%） | 第31-33页 |
| 3.3.3 光致发光光谱（PL） | 第33-35页 |
| 3.4 溅射功率对ZnO薄膜的光学特性影响 | 第35-40页 |
| 3.4.1 XRD分析 | 第35-36页 |
| 3.4.2 吸收光谱（Abs）与透射谱（T%） | 第36-38页 |
| 3.4.3 光致发光光谱（PL） | 第38-40页 |
| 3.5 溅射时间对ZnO薄膜的光学特性影响 | 第40-57页 |
| 3.5.1 简单溅射时间变化对ZnO薄膜光学特性的影响研究 | 第40-43页 |
| 3.5.2 在低功率下精细溅射时间变化对ZnO薄膜的特性影响研究（FTO） | 第43-47页 |
| 3.5.3 在低功率下精细溅射时间变化对ZnO薄膜的特性影响研究（蓝宝石） | 第47-52页 |
| 3.5.4 在低功率下精细溅射时间变化对ZnO薄膜的特性影响研究（N型Si衬底） | 第52-54页 |
| 3.5.5 在低功率下精细溅射时间变化对ZnO薄膜的特性影响研究（P型Si衬底） | 第54-57页 |
| 3.6 样品衬底类别对ZnO薄膜的光学特性影响 | 第57-60页 |
| 3.6.1 XRD比较分析 | 第58-59页 |
| 3.6.2 光致发光（PL）比较分析 | 第59-60页 |
| 3.7 本章小结 | 第60-62页 |
| 第四章 Ti重掺杂ZnO薄膜制备及其微观结构与光学特性研究 | 第62-70页 |
| 4.1 引言 | 第62页 |
| 4.2 衬底种类对掺Ti氧化锌薄膜的微观结构与光学特性影响 | 第62-64页 |
| 4.2.1 XRD分析 | 第62-63页 |
| 4.2.2 光致发光（PL） | 第63-64页 |
| 4.3 重Ti掺杂溅射功率比对掺Ti氧化锌薄膜的微观结构与光学特性影响 | 第64-68页 |
| 4.3.1 XRD分析 | 第65-66页 |
| 4.3.2 紫外可见吸收光谱（Abs） | 第66-68页 |
| 4.3.3 光致发光（PL） | 第68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 硕士期间发表论文 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
