| 中文摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 一、引言 | 第10-17页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-15页 |
| 1.2.1 指向性背光显示技术 | 第11-14页 |
| 1.2.2 目前存在的问题 | 第14-15页 |
| 1.3 论文的研究内容与结构 | 第15-16页 |
| 1.4 论文的创新点与特色 | 第16页 |
| 1.5 总结 | 第16-17页 |
| 二、基本理论 | 第17-25页 |
| 2.1 严格耦合波理论 | 第17-20页 |
| 2.2 像素型光栅方向性导光板的导光原理 | 第20-23页 |
| 2.3 紫外连续变空频光刻原理 | 第23-24页 |
| 2.4 总结 | 第24-25页 |
| 三、裸眼 3D显示中的指向性导光板结构设计 | 第25-47页 |
| 3.1 像素型光栅导光板模型的建立 | 第26-29页 |
| 3.1.1 光源 | 第26-28页 |
| 3.1.2 波导（lightguide） | 第28页 |
| 3.1.3 光源准直耦合 | 第28-29页 |
| 3.2 像素单元大小的确定 | 第29-30页 |
| 3.3 像素型光栅周期和沟槽取向的计算 | 第30-31页 |
| 3.4 像素单元衍射效率分析 | 第31-44页 |
| 3.4.1RSOFT模拟软件 | 第32-35页 |
| 3.4.2 槽深对纳米光栅衍射效率影响分析 | 第35-41页 |
| 3.4.3 入射角度对纳米光栅衍射效率影响分析 | 第41-43页 |
| 3.4.4 占空比对纳米光栅衍射效率的影响分析 | 第43-44页 |
| 3.5 光栅像素的远场分布 | 第44-45页 |
| 3.6 总结 | 第45-47页 |
| 四、像素型纳米光栅制作与实验研究 | 第47-59页 |
| 4.1 紫外连续变空频光刻制作纳米光栅像素 | 第47-50页 |
| 4.1.1 槽深的控制 | 第47-49页 |
| 4.1.2 变频变取向的纳米光栅像素的制作 | 第49-50页 |
| 4.2 多视角纳米光栅结构的导光性能研究 | 第50-51页 |
| 4.3 导光板出光效率与视角的关系研究 | 第51-52页 |
| 4.4 导光板出光效率与光传输距离的关系研究 | 第52-53页 |
| 4.5 纳米光栅的图像分离与 3D显示实验效果分析 | 第53-58页 |
| 4.5.1 纳米光栅实现图像的分离 | 第53-54页 |
| 4.5.2 定频 3D显示效果实验 | 第54页 |
| 4.5.3 变频 3D显示效果实验 | 第54-57页 |
| 4.5.4 实验分析 | 第57-58页 |
| 4.6 总结 | 第58-59页 |
| 五、结论与展望 | 第59-61页 |
| 5.1 论文总结 | 第59-60页 |
| 5.2 论文今后工作 | 第60-61页 |
| 六、参考文献 | 第61-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |