| 摘要 | 第6-7页 |
| 英文摘要 | 第7页 |
| 英文缩略表 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-22页 |
| 1.1 黄曲霉毒素 | 第13-15页 |
| 1.1.1 黄曲霉毒素简介 | 第13页 |
| 1.1.2 黄曲霉毒素的结构、理化性质及危害 | 第13-14页 |
| 1.1.3 黄曲霉毒素产生与防控 | 第14-15页 |
| 1.1.4 植物精油对黄曲霉生长和产毒的抑制 | 第15页 |
| 1.2 活性氧 | 第15-18页 |
| 1.2.1 活性氧的性质和产生方式 | 第15-16页 |
| 1.2.2 活性氧的危害和清除 | 第16-17页 |
| 1.2.3 活性氧的检测 | 第17-18页 |
| 1.3 电化学传感器 | 第18-20页 |
| 1.3.1 电化学传感器简介 | 第18-19页 |
| 1.3.2 电化学传感器检测H_2O_2的研究进展 | 第19-20页 |
| 1.4 研究的目的及意义 | 第20页 |
| 1.5 研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 第二章 基于聚多巴胺-磁性纳米颗粒构建过氧化氢无酶传感器的研究 | 第22-33页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 材料与方法 | 第22-24页 |
| 2.2.1 材料与试剂 | 第22-23页 |
| 2.2.2 仪器与设备 | 第23页 |
| 2.2.3 试验方法 | 第23-24页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第24-32页 |
| 2.3.1 PDA-Fe3O4纳米复合物的表征 | 第24-27页 |
| 2.3.2 PDA-Fe3O4纳米复合物的电化学表征 | 第27-31页 |
| 2.3.3 利用PDA-Fe3O4-Nafion/GCE检测黄曲霉胞外释放的H_2O_2 | 第31-32页 |
| 2.4 小结 | 第32-33页 |
| 第三章 利用电化学传感器研究柠檬醛抑制黄曲霉产毒机理 | 第33-47页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 材料与方法 | 第33-36页 |
| 3.2.1 试剂与材料 | 第33页 |
| 3.2.2 仪器与设备 | 第33-34页 |
| 3.2.3 试验方法 | 第34-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-45页 |
| 3.3.1 实时监测柠檬醛刺激黄曲霉胞外释放H_2O_2 | 第36-37页 |
| 3.3.2 柠檬醛刺激黄曲霉胞内ROS的变化 | 第37-38页 |
| 3.3.3 不同培养时间AFB1的累积量的测定 | 第38-40页 |
| 3.3.4 柠檬醛刺激不同培养时间黄曲霉胞外H_2O_2释放情况 | 第40-41页 |
| 3.3.5 柠檬醛对黄曲霉抗氧化酶系统的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.6 柠檬醛对黄曲霉胞内大分子的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.7 不同处理黄曲霉菌丝体形态的变化 | 第44-45页 |
| 3.4 小结 | 第45-47页 |
| 第四章 结论与展望 | 第47-48页 |
| 4.1 主要结论 | 第47页 |
| 4.2 创新点 | 第47页 |
| 4.3 展望 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 作者简历 | 第54页 |
