高效公自转轮式抛光技术结构及工艺研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第11-13页 |
| 1.2 非球面反射镜加工技术简介 | 第13-21页 |
| 1.2.1 传统非球面加工工艺 | 第13-15页 |
| 1.2.2 计算机控制光学表面成型技术 | 第15-16页 |
| 1.2.3 小磨头技术 | 第16-17页 |
| 1.2.4 应力抛光技术 | 第17-18页 |
| 1.2.5 应力盘抛光技术 | 第18-19页 |
| 1.2.6 磁流变抛光技术 | 第19-20页 |
| 1.2.7 离子束抛光技术 | 第20-21页 |
| 1.3 计算机控制表面成型技术发展现状 | 第21-22页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容 | 第22-25页 |
| 第2章 公自转轮式抛光装置设计及去除函数建模 | 第25-43页 |
| 2.1 Preston假设 | 第25页 |
| 2.2 行星抛光装置结构简介 | 第25-29页 |
| 2.3 公自转轮式抛光工作原理及结构简介 | 第29-35页 |
| 2.3.1 公自转抛光装置结构简介 | 第29-30页 |
| 2.3.2 公自转轮式抛光结构机械设计 | 第30-33页 |
| 2.3.3 轮式抛光磨头接触区域分析 | 第33-34页 |
| 2.3.4 轮式磨头抛光亚表面损伤估算 | 第34-35页 |
| 2.4 公自转轮式抛光去除函数仿真 | 第35-41页 |
| 2.4.1 压力分布建模 | 第36页 |
| 2.4.2 速度分布建模 | 第36-39页 |
| 2.4.3 去除函数仿真 | 第39-41页 |
| 2.5 本章小结 | 第41-43页 |
| 第3章 公自转轮式抛光装置工艺实验及影响参数研究 | 第43-59页 |
| 3.1 实现公自转轮式抛光代替装置结构简介 | 第43-44页 |
| 3.2 去除函数实验 | 第44-49页 |
| 3.2.1 去除函数实验流程 | 第44-45页 |
| 3.2.2 去除函数实验 | 第45-49页 |
| 3.3 工艺参数对抛光去除结果的影响 | 第49-54页 |
| 3.3.1 压入深度对去除区域大小的影响 | 第51页 |
| 3.3.2 压入深度对抛光压力的影响 | 第51-52页 |
| 3.3.3 抛光速度对去除效率的影响 | 第52-53页 |
| 3.3.4 压入深度对去除效率的影响 | 第53-54页 |
| 3.4 去除函数稳定性实验 | 第54-56页 |
| 3.5 去除效率分析 | 第56-57页 |
| 3.6 加工曲面能力分析 | 第57-58页 |
| 3.7 替代装置实验结果分析 | 第58页 |
| 3.8 本章小结 | 第58-59页 |
| 第4章 仿真加工实验 | 第59-65页 |
| 4.1 常用驻留时间算法 | 第59-60页 |
| 4.2 矩阵代数加工模型 | 第60-61页 |
| 4.3 仿真加工平面镜 | 第61-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第5章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 论文研究成果和创新点 | 第65-66页 |
| 5.2 研究方向展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第70-71页 |
| 指导教师及作者简介 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
