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高效公自转轮式抛光技术结构及工艺研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-25页
    1.1 课题研究背景及意义第11-13页
    1.2 非球面反射镜加工技术简介第13-21页
        1.2.1 传统非球面加工工艺第13-15页
        1.2.2 计算机控制光学表面成型技术第15-16页
        1.2.3 小磨头技术第16-17页
        1.2.4 应力抛光技术第17-18页
        1.2.5 应力盘抛光技术第18-19页
        1.2.6 磁流变抛光技术第19-20页
        1.2.7 离子束抛光技术第20-21页
    1.3 计算机控制表面成型技术发展现状第21-22页
    1.4 本论文的主要研究内容第22-25页
第2章 公自转轮式抛光装置设计及去除函数建模第25-43页
    2.1 Preston假设第25页
    2.2 行星抛光装置结构简介第25-29页
    2.3 公自转轮式抛光工作原理及结构简介第29-35页
        2.3.1 公自转抛光装置结构简介第29-30页
        2.3.2 公自转轮式抛光结构机械设计第30-33页
        2.3.3 轮式抛光磨头接触区域分析第33-34页
        2.3.4 轮式磨头抛光亚表面损伤估算第34-35页
    2.4 公自转轮式抛光去除函数仿真第35-41页
        2.4.1 压力分布建模第36页
        2.4.2 速度分布建模第36-39页
        2.4.3 去除函数仿真第39-41页
    2.5 本章小结第41-43页
第3章 公自转轮式抛光装置工艺实验及影响参数研究第43-59页
    3.1 实现公自转轮式抛光代替装置结构简介第43-44页
    3.2 去除函数实验第44-49页
        3.2.1 去除函数实验流程第44-45页
        3.2.2 去除函数实验第45-49页
    3.3 工艺参数对抛光去除结果的影响第49-54页
        3.3.1 压入深度对去除区域大小的影响第51页
        3.3.2 压入深度对抛光压力的影响第51-52页
        3.3.3 抛光速度对去除效率的影响第52-53页
        3.3.4 压入深度对去除效率的影响第53-54页
    3.4 去除函数稳定性实验第54-56页
    3.5 去除效率分析第56-57页
    3.6 加工曲面能力分析第57-58页
    3.7 替代装置实验结果分析第58页
    3.8 本章小结第58-59页
第4章 仿真加工实验第59-65页
    4.1 常用驻留时间算法第59-60页
    4.2 矩阵代数加工模型第60-61页
    4.3 仿真加工平面镜第61-63页
    4.4 本章小结第63-65页
第5章 总结与展望第65-67页
    5.1 论文研究成果和创新点第65-66页
    5.2 研究方向展望第66-67页
参考文献第67-70页
在学期间学术成果情况第70-71页
指导教师及作者简介第71-72页
致谢第72页

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