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高性能有机场效应晶体管的研究

创新之处第5-6页
中文摘要第6-8页
英文摘要第8-9页
第一章 有机场效应晶体管的发展历程和应用第10-26页
    1.1 有机场效应晶体管的发展历程第11-14页
    1.2 有机场效应晶体管的应用第14-20页
        1.2.1 在射频识别标签中的应用第14页
        1.2.2 在传感器中的应用第14-18页
        1.2.3 在显示器中的应用第18-20页
    1.3 本论文的研究内容第20页
    参考文献第20-26页
第二章 有机场效应晶体管的器件物理、材料和性能第26-87页
    2.1 有机场效应晶体管的器件物理第26-32页
        2.1.1 有机场效应晶体管的结构第26页
        2.1.2 有机场效应晶体管的工作原理第26-29页
        2.1.3 有机场效应晶体管的分类第29-30页
        2.1.4 有机场效应晶体管的性能参数第30-32页
    2.2 有机场效应晶体管的材料第32-60页
        2.2.1 有机半导体材料第32-51页
        2.2.2 有机场效应晶体管的绝缘层材料第51-60页
        2.2.3 有机场效应晶体管的电极材料第60页
    2.3 有机场效应晶体管的制备技术第60-64页
        2.3.1 真空沉积技术第61页
        2.3.2 溶液成膜技术第61-62页
        2.3.3 LB (Langmuir-Blodgeet)膜技术第62-63页
        2.3.4 印刷技术第63页
        2.3.5 单晶技术第63-64页
    2.4 有机半导体的电荷传输机制第64-65页
        2.4.1 跃迁模型第64-65页
        2.4.2 多重捕获和释放模型第65页
    2.5 影响有机场效应晶体管性能的因素第65-70页
        2.5.1 有机半导体纯度第65-66页
        2.5.2 有机半导体层的结构和形貌第66-69页
        2.5.3 金属/半导体和半导体/绝缘层界面第69-70页
    参考文献第70-87页
第三章 高性能酞菁铜场效应晶体管的构筑:压力诱导的优化分子排列法第87-106页
    3.1 概述第87-88页
    3.2 酞菁铜场效应晶体管的构筑第88-91页
    3.3 酞菁铜场效应晶体管的性能第91-101页
    3.4 本章小结第101-102页
    参考文献第102-106页
第四章 高性能并五苯场效应晶体管的构筑第106-133页
    4.1 沉积压力对并五苯薄膜的形貌、结构和电性能的影响第106-114页
        4.1.1 概述第106页
        4.1.2 并五苯薄膜及其场效应器件的制备第106-108页
        4.1.3 并五苯薄膜的形貌、结构和电性能第108-114页
        4.1.4 小结第114页
    4.2 通过引入酞菁插入层构筑高性能的并五苯场效应晶体管第114-122页
        4.2.1 概述第114-115页
        4.2.2 MPcs插入层并五苯场效应晶体管的构筑第115-118页
        4.2.3 MPcs插入层并五苯场效应晶体管的性能第118-122页
        4.2.4 小结第122页
    4.3 高性能的pentacene/CuPc夹层结构场效应晶体管第122-128页
        4.3.1 概述第122-123页
        4.3.2 Pentacene/CuPc夹层结构场效应晶体管件的构筑第123-125页
        4.3.3 Pentacene/CuPc夹层结构场效应晶体管件的性能第125-127页
        4.3.4 小结第127-128页
    参考文献第128-133页
全文总结和展望第133-134页
攻博期间概况第134-135页
致谢第135-136页

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