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DAST晶体生长及机理研究

摘要第10-12页
ABSTRACT第12-14页
第一章 绪论第15-30页
    1.1 非线性光学晶体第16-18页
        1.1.1 非线性光学第16-17页
        1.1.2 非线性光学晶体及其应用第17-18页
    1.2 有机非线性光学晶体第18-20页
        1.2.1 有机非线性光学晶体第18-19页
        1.2.2 有机非线性光学晶体的分类第19-20页
    1.3 DAST晶体在太赫兹辐射中的应用第20-22页
        1.3.1 太赫兹第21页
        1.3.2 利用有机晶体DAST作为THz源第21-22页
    1.4 DAST晶体第22-26页
        1.4.1 非线性光学晶体DAST第22-23页
        1.4.2 DAST晶体结构第23-24页
        1.4.3 DAST晶体研究历史及现状第24-26页
    1.5 本论文研究思路与工作安排第26页
    参考文献第26-30页
第二章 DAST原料合成和结构纯度表征第30-44页
    2.1 DAST晶体原料的合成第30-33页
        2.1.1 实验药品及仪器第30-32页
        2.1.2 DAST原料合成路线第32-33页
    2.2 DAST晶体原料结构和纯度表征第33-38页
        2.2.1 X-射线粉末衍射分析第33-34页
        2.2.2 DAST粉末的~1H NMR与~(13)C NMR表征结果及分析第34-38页
        2.2.3 元素分析第38页
    2.3 DAST晶体原料的提纯第38-40页
        2.3.1 DAST原料提纯的~1HNMR谱第39页
        2.3.2 DAST原料提纯的元素分析第39-40页
    2.4 DAST晶体原料的热稳定性分析第40-42页
    本章总结第42页
    参考文献第42-44页
第三章 DAST晶体生长及表征第44-64页
    3.1 晶体生长理论第44-45页
    3.2 DAST-甲醇体系亚稳区测试第45-46页
    3.3 晶体生长实验第46-53页
        3.3.1 挥发溶剂法生长晶体第47-49页
        3.3.2 溶液降温法生长晶体第49-53页
    3.4 DAST晶体光学显微分析第53-55页
        3.4.1 挥发溶剂法晶体生长显微形貌分析第54页
        3.4.2 降温法生长晶体第54-55页
    3.5 DAST晶体的透过光谱分析第55-59页
        3.5.1 DAST晶体的透过光谱第56页
        3.5.2 不同生长方法晶体的透过率对比第56-58页
        3.5.3 不同降温速率DAST晶体的透过光谱对比第58-59页
    3.6 X-射线衍射摇摆曲线分析第59-61页
    本章总结第61-62页
    参考文献第62-64页
第四章 DAST晶体形态及生长机理分析第64-80页
    4.1 DAST生长形态分析第65-67页
        4.1.1 DAST晶体的实际生长形态第66-67页
        4.1.2 DAST晶体生长形态的PBC理论分析第67页
    4.2 DAST晶体微观形貌的AFM观察第67-68页
        4.2.1 原子力显微镜AFM第67-68页
        4.2.2 DAST晶体(001)面AFM观察第68页
    4.3 DAST晶体(001)面生长机理分析第68-77页
        4.3.1 不同生长方法晶体生长的台阶分析第68-72页
        4.3.2 原料提纯生长生长晶体的AFM第72-73页
        4.3.3 DAST晶体螺位错生长机理的AFM观察第73-74页
        4.3.4 DAST晶体二维核生长机理的AFM观察第74-75页
        4.3.5 DAST晶体生长的各向异性第75-77页
        4.3.6 生长层形貌第77页
    本章总结第77-78页
    参考文献第78-80页
第五章 结论与展望第80-83页
    5.1 本论文主要结论第80-81页
    5.2 论文主要创新点第81页
    5.3 有待进一步研究的问题第81-83页
致谢第83-84页
学位论文评阅及答辩情况表第84页

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