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ZnO金属氧化物半导体材料可控生产与性能研究

摘要第4-5页
abstract第5页
第一章 纳米技术与半导体材料第9-12页
    1.1 纳米技术第9-11页
        1.1.1 纳米材料第9-10页
        1.1.2 纳米电子学第10页
        1.1.3 纳米动力学第10-11页
    1.2 纳米技术应用领域第11页
    1.3 半导体纳米材料第11-12页
第二章 ZNO金属氧化物第12-20页
    2.1 ZnO简介第12-13页
    2.2 ZnO的性质第13-17页
        2.2.1 ZnO的晶体结构和特性第13-14页
        2.2.2 纳米结构ZnO的特性第14-17页
    2.3 一维纳米线及阵列第17页
    2.4 ZnO一维纳米结构第17-18页
    2.5 ZnO纳米线的研究热点第18-19页
    2.6 纳米带材料第19-20页
第三章 仪器设备第20-29页
    3.1 AFM简介第20-23页
        3.1.1 原子力显微镜(AtomicForceMicroscopy,AFM)第20-21页
        3.1.2 AFM原理第21-22页
        3.1.3 AFM的系统架构第22-23页
    3.2 SEM(扫描电子显微镜)第23-24页
    3.3 TEM(透射电镜)第24页
    3.4 HRTEM(高分辨透射电镜)第24-25页
    3.5 拉曼光谱第25-29页
        3.5.1 拉曼效应第25-26页
        3.5.2 拉曼光谱分析第26页
        3.5.3 拉曼光谱的原理第26-27页
        3.5.4 拉曼光谱的谱线特征第27页
        3.5.5 拉曼光谱的应用第27-29页
第四章 合成技术第29-50页
    4.1 纳米材料的制备方法第29-30页
    4.2 一维纳米材料的合成方法第30-33页
        4.2.1 一维纳米材料的生长第30-31页
        4.2.2 模板合成法第31页
        4.2.3 固液界面法第31-32页
        4.2.4 气固(VS)法第32页
        4.2.5 高温水解法第32页
        4.2.6 基于覆盖剂的溶液法第32页
        4.2.7 自组装生长法第32-33页
    4.3 实验内容及分析第33-34页
        4.3.1 实验内容第33-34页
        4.3.2 实验设备及试剂第34页
    4.4 金属锌直接加热法制备ZnO一维纳米材料第34-43页
        4.4.1 直接加热法实验步骤第34-35页
        4.4.2 加热温度大于金属锌熔点的所得产物第35-39页
        4.4.3 加热温度小于金属锌熔点的所得产物第39-41页
        4.4.4 直接加热法机理分析第41-42页
        4.4.5 直接加热法实验结论第42-43页
    4.5 Zn(NO_3)_2 固相研磨法制备ZnO一维纳米材料第43-47页
        4.5.1 制备ZnO前驱物和ZnO纳米线第43页
        4.5.2 NaCl对纳米ZnO粒径的影响第43-44页
        4.5.3 NaCl与前驱物的最佳摩尔比第44页
        4.5.4 ZnO纳米线生长的时间因素第44页
        4.5.5 ZnO纳米线生长的温度因素第44-45页
        4.5.6 生成前驱物的原料的影响第45页
        4.5.7 固相合成法机理分析第45-46页
        4.5.8 固相合成法研究结论第46-47页
    4.6 高分子软模板法自组装生长ZnO微纳结构第47-48页
    4.7 高分子软模板法自组装生长ZnO微纳结构第48-50页
        4.7.1 柠檬酸作配合剂第48-49页
        4.7.2 乙二胺四乙酸作配合剂第49-50页
第五章 性能测试第50-53页
    5.1 AFM对一维纳米材料的加工和测试第50-51页
    5.2 一维ZnO纳米带的力学性能研究第51-53页
        5.2.1 一维纳米材料形貌的测试第51-52页
        5.2.2 一维纳米材料成分的测试第52-53页
第六章 总结和展望第53-56页
    6.1 论文总结第53-54页
    6.2 展望第54-56页
参考文献第56-60页
发表论文和参加科研情况说明第60-61页
致谢第61-62页

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