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半导体与磁性金属低维结构的磁输运性质研究

致谢第1-6页
中文摘要第6-8页
ABSTRACT第8-13页
第1章 绪论第13-34页
   ·自旋电子学概述第13-20页
     ·巨磁阻效应与金属自旋电子学第13-15页
     ·自旋场效应晶体管与半导体自旋电子学第15-18页
     ·新兴自旋电子学――量子自旋霍尔效应与拓扑绝缘体第18-20页
   ·电子自旋相关性质第20-28页
     ·自旋轨道耦合效应与零场自旋分裂能第20-24页
     ·自旋极化率第24-25页
     ·磁性多层膜中的自旋极化输运第25-27页
     ·磁性多层膜中的垂直磁各向异性第27-28页
   ·本论文创新点与结构简介第28-30页
 参考文献第30-34页
第2章 磁输运:方法、现象与理论第34-51页
   ·磁输运测量方法及测量系统第34-39页
     ·标准霍尔法第34-35页
     ·范德堡法第35-37页
     ·磁输运测量系统第37-39页
   ·磁输运现象与理论第39-49页
     ·经典霍尔效应与Drude电子输运理论第39-42页
     ·反常霍尔效应第42-43页
     ·量子霍尔效应第43-44页
     ·朗道量子化与磁阻的Shubnikov-de Hass振荡第44-47页
     ·弱局域效应与弱反局域效应第47-49页
 参考文献第49-51页
第3章 HgTe表面量子阱中二维电子系统的自旋极化率第51-73页
   ·引言第51-54页
   ·提取自旋极化率的重合法简介第54-56页
   ·样品与实验条件第56-57页
   ·实验结果与讨论第57-68页
   ·本章小结第68-69页
 参考文献第69-73页
第4章 In_0.53Ga_0.47As/In_0.52Al_0.48As量子阱中二维电子系统的零场自旋分裂能与高场有效g因子第73-97页
   ·引言第73-74页
   ·提取零场自旋分裂能的方法第74-81页
     ·SdH磁阻振荡的拍频效应第74-76页
     ·弱反局域效应第76-81页
   ·提取有效g因子的方法第81-82页
   ·样品与实验条件第82-83页
   ·实验结果与讨论第83-92页
     ·样品的零场自旋分裂能第83-88页
     ·样品的高场g因子第88-92页
   ·本章小结第92-93页
 参考文献第93-97页
第5章 Co/Pt磁性多层膜的垂直各向异性研究第97-110页
   ·引言第97-98页
   ·样品与实验条件第98页
   ·实验结果与讨论第98-106页
   ·本章小结第106-107页
 参考文献第107-110页
第6章 结论与展望第110-112页
   ·结论第110-111页
   ·展望第111-112页
作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果第112-114页

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