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关于若干VIB族金属硫簇的结构演化与成键性质的理论研究

中文摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 绪论第10-26页
   ·簇的概述第10-13页
     ·簇的尺寸第10-11页
     ·簇的种类第11-13页
   ·簇的研究方法第13-16页
     ·研究簇的实验方法第13-16页
     ·研究簇的理论方法第16页
   ·密度泛函理论方法第16-21页
     ·Thomas-Fermi模型第17-18页
     ·Hohenberg-Kohn定理第18-19页
     ·Kohn-Sham方程第19-20页
     ·杂化(Hybrid)密度泛函第20-21页
   ·耦合簇理论方法第21-23页
   ·VIB族过渡金属硫簇的研究现状和研究意义第23-24页
   ·本论文的工作重点第24-26页
第二章 单核钼硫簇MoS_n~(-/0)(n=1-6)的理论研究第26-45页
   ·前言第26-27页
   ·计算方法第27页
   ·计算结果与讨论第27-44页
     ·结构分析第28-35页
       ·MpS~(-/0)第28页
       ·MoS_2~(-/0)第28-29页
       ·MoS_3~(-/0)第29页
       ·MoS_4~(-/0)第29-30页
       ·MoS_5~(-/0)第30-32页
       ·MoS_6~(-/0)第32-35页
     ·光电子能谱模拟与分子轨道分析第35-42页
       ·MoS和MoS~-第35页
       ·MoS_2和MoS_2~-第35-36页
       ·MoS_3和MoS_3~-第36-37页
       ·MoS_4和MoS_4~-第37页
       ·MoS_5和MoS_5~-第37-38页
       ·MoS_6和MOS_6~-第38-42页
     ·MoS_n~(-/0)(n=1-6)的结构演化和顺序硫化第42页
     ·MoS_n~-(n=1-6)的VDE_(1st)随硫含量n的变化趋势第42-43页
     ·H_2在MoS_n~(-/0)(n=1-6)簇合物上的还原反应第43-44页
   ·结论第44-45页
第三章 二核钼硫簇Mo_2S_n~(-/0)(n=4-8)的理论研究第45-64页
   ·前言第45-46页
   ·计算方法第46页
   ·计算结果与讨论第46-62页
     ·结构分析第47-53页
       ·Mo_2S_4~(-/0)第47-48页
       ·Mo_2S_5~(-/0)第48页
       ·Mo_2S_6~(-/0)第48-49页
       ·Mo_2S_7~(-/0)第49-50页
       ·Mo_2S_8~(-/0)第50-51页
       ·CCSD(T)单点能计算结果第51-53页
     ·光电子能谱模拟与分子轨道分析第53-60页
       ·Mo_2S_4和Mo_2S_4~-第53-54页
       ·Mo_2S_5和Mo_2S_5~-第54页
       ·Mo_2S_6和Mo_2S_6~-第54-55页
       ·MO_2S_7和Mo_2S_7~-第55-56页
       ·Mo_2S_8和Mo_2S_8~-第56-60页
     ·Mo_2S_n~(-/0)(n=4-8)的结构演化和顺序硫化第60页
     ·Mo_2S_n~-(n=4-8)的VDE_(1st)随硫含量n的变化趋势第60-61页
     ·H_2在Mo_2S_n~(-/0)(n=4-8)簇合物上的还原反应第61-62页
   ·结论第62-64页
第四章 VIB族钼/钨金属硫簇(MS_2)_n~(-/0)(M=Mo,W;n=1-3)的理论研究第64-79页
   ·前言第64-65页
   ·计算方法第65页
   ·计算结果与讨论第65-78页
     ·结构分析第66-72页
       ·MS_2~(-/0)(M=Mo,W)第66页
       ·M_2S_4~(-/0)(M=Mo,W)第66-68页
       ·M_3S_6~(-/0)(M=Mo,W)第68-72页
     ·光电子能谱模拟与分子轨道分析第72-77页
       ·MS_2~(-/0)(M=Mo,W)第72-73页
       ·M_2S_4~(-/0)(M=Mo,W)第73-74页
       ·M_3S_6~(-/0)(M=Mo,W)第74-77页
     ·VDE_(1st)随金属原子和硫含量n的变化趋势第77页
     ·(MS_2)_n~(-/0)(M=Mo,W;n=2,3)的基态结构结合能(BE)第77-78页
   ·结论第78-79页
总结第79-80页
未来工作展望第80-81页
参考文献第81-92页
致谢第92-93页
附录第93-116页
个人简历第116-117页
在读期间论文发表情况第117页

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