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白钨矿型CdTb2(MoO44与CdTb2(WO44磁光晶体生长及性能研究

摘要第1-4页
Abstract第4-9页
第一章 绪论第9-22页
   ·物质磁性的分类第9-12页
     ·顺磁性物质第10页
     ·抗磁性物质第10-11页
     ·铁磁性物质第11页
     ·亚铁磁性物质第11页
     ·反铁磁性物质第11-12页
   ·磁光效应基本理论第12-15页
     ·法拉第效应第13页
     ·克尔效应第13-14页
     ·塞曼效应第14页
     ·磁致线双折射与线二向色性第14-15页
   ·磁光材料及器件第15-16页
   ·稀土钨、钼酸盐体系概述第16-19页
     ·稀土钨、钼酸盐研究状况第16-18页
     ·白钨矿结构简述第18-19页
   ·选题依据与研究内容第19-22页
     ·选题依据第19-20页
     ·研究内容第20-22页
第二章 实验测试仪器及原理介绍第22-32页
   ·实验测试仪器与试剂第22-23页
   ·测试仪器原理第23-32页
     ·X射线粉末衍射仪第23-24页
     ·红外光谱分析第24-25页
     ·热分析第25-26页
     ·扫描电子显微镜-X射线能谱分析仪(SEM-EDS)第26-27页
     ·X射线光电子能谱第27页
     ·激光干涉膨胀仪第27-28页
     ·紫外—可见—红外分光光度计(UV-VIS-IR)第28-29页
     ·振动样品磁强计(Vibrating Sample Magnetometer)第29页
     ·法拉第旋转角测试系统第29-32页
第三章 多晶原料的合成与表征第32-44页
   ·CTM多晶原料合成第32-37页
     ·高温固相法合成步骤第32页
     ·反应方程式第32-33页
     ·热分析第33-34页
     ·X-射线粉末衍射第34页
     ·红外光谱第34-35页
     ·一致熔融性分析第35-37页
   ·CTW多晶原料合成第37-41页
     ·反应方程式第37页
     ·热分析第37-38页
     ·X-射线粉末衍射第38页
     ·红外光谱第38-39页
     ·多晶原料分析第39-41页
   ·多晶粉末质量磁化率第41-43页
   ·小结第43-44页
第四章 晶体生长第44-60页
   ·晶体生长方法第44-45页
     ·熔体生长第44页
     ·溶液生长第44页
     ·气相生长第44-45页
   ·提拉法简述第45-51页
     ·提拉法生长原理第45-46页
     ·晶体生长装置第46-48页
     ·晶体生长的影响因素第48-50页
     ·晶体生长步骤第50-51页
   ·CTM晶体生长第51-54页
     ·晶体生长参数第51-52页
     ·晶体及晶片照片第52-53页
     ·晶体生长分析第53-54页
   ·CTW晶体生长第54-59页
     ·晶体生长参数第54-55页
     ·晶体照片第55-56页
     ·晶体生长分析第56-59页
   ·小结第59-60页
第五章 晶体结构与基本性能表征第60-72页
   ·晶体粉末X射线衍射分析第60-61页
   ·Rietveld方法精修第61-64页
   ·晶体密度测定第64-65页
   ·晶体硬度的测定第65-66页
   ·晶体热膨胀系数第66-68页
   ·变温磁化率第68-71页
   ·小结第71-72页
第六章 晶体磁光性能测试第72-85页
   ·晶体光学性能测试第72-79页
     ·晶体透过光谱第72-74页
     ·晶体吸收光谱第74-75页
     ·二次退火的影响第75-79页
   ·法拉第旋转角与费尔德常数第79-84页
     ·法拉第旋转角的测量第79-80页
     ·费尔德常数第80-81页
     ·法拉第旋光谱第81-82页
     ·费尔德常数与波长关系第82-84页
   ·小结第84-85页
结论与展望第85-88页
参考文献第88-97页
致谢第97-98页
个人简历及在学成果第98页

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