摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第一章 绪论 | 第9-22页 |
·物质磁性的分类 | 第9-12页 |
·顺磁性物质 | 第10页 |
·抗磁性物质 | 第10-11页 |
·铁磁性物质 | 第11页 |
·亚铁磁性物质 | 第11页 |
·反铁磁性物质 | 第11-12页 |
·磁光效应基本理论 | 第12-15页 |
·法拉第效应 | 第13页 |
·克尔效应 | 第13-14页 |
·塞曼效应 | 第14页 |
·磁致线双折射与线二向色性 | 第14-15页 |
·磁光材料及器件 | 第15-16页 |
·稀土钨、钼酸盐体系概述 | 第16-19页 |
·稀土钨、钼酸盐研究状况 | 第16-18页 |
·白钨矿结构简述 | 第18-19页 |
·选题依据与研究内容 | 第19-22页 |
·选题依据 | 第19-20页 |
·研究内容 | 第20-22页 |
第二章 实验测试仪器及原理介绍 | 第22-32页 |
·实验测试仪器与试剂 | 第22-23页 |
·测试仪器原理 | 第23-32页 |
·X射线粉末衍射仪 | 第23-24页 |
·红外光谱分析 | 第24-25页 |
·热分析 | 第25-26页 |
·扫描电子显微镜-X射线能谱分析仪(SEM-EDS) | 第26-27页 |
·X射线光电子能谱 | 第27页 |
·激光干涉膨胀仪 | 第27-28页 |
·紫外—可见—红外分光光度计(UV-VIS-IR) | 第28-29页 |
·振动样品磁强计(Vibrating Sample Magnetometer) | 第29页 |
·法拉第旋转角测试系统 | 第29-32页 |
第三章 多晶原料的合成与表征 | 第32-44页 |
·CTM多晶原料合成 | 第32-37页 |
·高温固相法合成步骤 | 第32页 |
·反应方程式 | 第32-33页 |
·热分析 | 第33-34页 |
·X-射线粉末衍射 | 第34页 |
·红外光谱 | 第34-35页 |
·一致熔融性分析 | 第35-37页 |
·CTW多晶原料合成 | 第37-41页 |
·反应方程式 | 第37页 |
·热分析 | 第37-38页 |
·X-射线粉末衍射 | 第38页 |
·红外光谱 | 第38-39页 |
·多晶原料分析 | 第39-41页 |
·多晶粉末质量磁化率 | 第41-43页 |
·小结 | 第43-44页 |
第四章 晶体生长 | 第44-60页 |
·晶体生长方法 | 第44-45页 |
·熔体生长 | 第44页 |
·溶液生长 | 第44页 |
·气相生长 | 第44-45页 |
·提拉法简述 | 第45-51页 |
·提拉法生长原理 | 第45-46页 |
·晶体生长装置 | 第46-48页 |
·晶体生长的影响因素 | 第48-50页 |
·晶体生长步骤 | 第50-51页 |
·CTM晶体生长 | 第51-54页 |
·晶体生长参数 | 第51-52页 |
·晶体及晶片照片 | 第52-53页 |
·晶体生长分析 | 第53-54页 |
·CTW晶体生长 | 第54-59页 |
·晶体生长参数 | 第54-55页 |
·晶体照片 | 第55-56页 |
·晶体生长分析 | 第56-59页 |
·小结 | 第59-60页 |
第五章 晶体结构与基本性能表征 | 第60-72页 |
·晶体粉末X射线衍射分析 | 第60-61页 |
·Rietveld方法精修 | 第61-64页 |
·晶体密度测定 | 第64-65页 |
·晶体硬度的测定 | 第65-66页 |
·晶体热膨胀系数 | 第66-68页 |
·变温磁化率 | 第68-71页 |
·小结 | 第71-72页 |
第六章 晶体磁光性能测试 | 第72-85页 |
·晶体光学性能测试 | 第72-79页 |
·晶体透过光谱 | 第72-74页 |
·晶体吸收光谱 | 第74-75页 |
·二次退火的影响 | 第75-79页 |
·法拉第旋转角与费尔德常数 | 第79-84页 |
·法拉第旋转角的测量 | 第79-80页 |
·费尔德常数 | 第80-81页 |
·法拉第旋光谱 | 第81-82页 |
·费尔德常数与波长关系 | 第82-84页 |
·小结 | 第84-85页 |
结论与展望 | 第85-88页 |
参考文献 | 第88-97页 |
致谢 | 第97-98页 |
个人简历及在学成果 | 第98页 |