HfO2光学薄膜激光预处理及其机理研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| ·研究背景 | 第10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-14页 |
| ·国内研究现状 | 第10-13页 |
| ·国外研究现状 | 第13-14页 |
| ·HfO_2光学薄膜概述 | 第14页 |
| ·研究目的和意义 | 第14-15页 |
| ·研究技术路线及主要研究内容 | 第15-16页 |
| ·研究技术路线 | 第15-16页 |
| ·主要研究内容 | 第16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 2 光学薄膜激光损伤阈值测试方法 | 第17-27页 |
| ·激光损伤阈值测试规范 | 第17-20页 |
| ·损伤阈值测试相关概念 | 第18-19页 |
| ·损伤阈值确定方法 | 第19-20页 |
| ·损伤判定方法 | 第20-22页 |
| ·相衬显微镜观测法 | 第20-21页 |
| ·He-Ne散射光检测法 | 第21-22页 |
| ·等离子体闪光法 | 第22页 |
| ·光热偏转法 | 第22页 |
| ·损伤判定方法的比较 | 第22页 |
| ·实验装置的建立 | 第22-24页 |
| ·1-on-1激光损伤阂值测试 | 第24-25页 |
| ·测试前准备工作 | 第24页 |
| ·阈值测试过程 | 第24-25页 |
| ·损伤阈值的确定 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-27页 |
| 3 光学薄膜激光损伤理论 | 第27-44页 |
| ·热致损伤 | 第27-33页 |
| ·薄膜本征吸收 | 第27-28页 |
| ·薄膜中的热分布 | 第28-29页 |
| ·薄膜缺陷吸收 | 第29-31页 |
| ·薄膜热力耦合 | 第31-33页 |
| ·激光与薄膜相互作用热效应的本质 | 第33页 |
| ·场致损伤 | 第33-37页 |
| ·雪崩电离 | 第35-36页 |
| ·多光子吸收 | 第36页 |
| ·自由等离子体吸收 | 第36-37页 |
| ·激光参数对薄膜损伤阈值的影响 | 第37-38页 |
| ·连续激光和脉冲激光 | 第37页 |
| ·激光波长 | 第37页 |
| ·激光脉宽 | 第37页 |
| ·光斑尺寸 | 第37-38页 |
| ·激光模式 | 第38页 |
| ·薄膜自身对激光损伤阈值的影响 | 第38-39页 |
| ·膜料特性 | 第38页 |
| ·薄膜缺陷 | 第38-39页 |
| ·薄膜应力 | 第39页 |
| ·薄膜厚度 | 第39页 |
| ·薄膜制备工艺对损伤阈值的影响 | 第39-40页 |
| ·基底的抛光和清洗 | 第39-40页 |
| ·沉积方式 | 第40页 |
| ·改善薄膜抗激光损伤能力的措施 | 第40-43页 |
| ·制备工艺 | 第40-42页 |
| ·激光材料 | 第42页 |
| ·退火处理 | 第42页 |
| ·离子后处理 | 第42页 |
| ·激光预处理 | 第42-43页 |
| ·提高阈值不同措施的比较 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 4. HfO_2薄膜激光预处理及其特性表征 | 第44-72页 |
| ·HfO_2薄膜制备 | 第44-46页 |
| ·激光预处理方式 | 第46-47页 |
| ·实验装置及原理 | 第47页 |
| ·预处理前后HfO_2薄膜性能表征 | 第47-66页 |
| ·预处理前阈值测试及预处理 | 第47-48页 |
| ·表面微观形貌测试 | 第48-52页 |
| ·微观结构测试 | 第52-59页 |
| ·光学常数测试 | 第59-61页 |
| ·透过率测试 | 第61-62页 |
| ·预处理后阈值测试 | 第62-63页 |
| ·损伤形貌测试 | 第63-66页 |
| ·HfO_2薄膜激光预处理机理 | 第66-67页 |
| ·高阈值HfO_2薄膜的获得 | 第67-70页 |
| ·采用不同预处理方式获得高阈值HfO_2薄膜 | 第68-69页 |
| ·改进制备工艺获得高阈值HfO_2薄膜 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 5 结论与展望 | 第72-74页 |
| ·结论 | 第72-73页 |
| ·展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
