| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·PCB的定义、应用及发展 | 第10-11页 |
| ·化学镀铜溶液的组成 | 第11-12页 |
| ·化学镀铜的研究发展 | 第12-13页 |
| ·低应力化学镀的研究背景与进展 | 第13-15页 |
| ·化学镀层应力产生的原因 | 第13-14页 |
| ·低应力化学镀的研究进展 | 第14-15页 |
| ·化学镀铜膜应力测试的方法及研究现状 | 第15-16页 |
| ·本课题的研究目的和意义 | 第16-18页 |
| 第2章 实验方法 | 第18-26页 |
| ·实验原理 | 第18页 |
| ·实验材料 | 第18-19页 |
| ·实验流程 | 第19-21页 |
| ·基板表面化学镀的前处理 | 第19-20页 |
| ·ABS塑料基板表面化学镀铜 | 第20页 |
| ·沉积铜膜外观质量的测试 | 第20页 |
| ·化学镀铜速率的测定 | 第20-21页 |
| ·化学沉积铜膜晶型结构的测试 | 第21页 |
| ·化学镀铜膜的应力分析 | 第21-22页 |
| ·化学镀液的电化学分析 | 第22-23页 |
| ·实验原理 | 第22页 |
| ·实验方法 | 第22-23页 |
| ·实验试剂及实验设备 | 第23-26页 |
| ·实验试剂 | 第23页 |
| ·实验设备 | 第23-26页 |
| 第3章 单一添加剂对低温化学镀铜的影响 | 第26-40页 |
| ·引言 | 第26-27页 |
| ·低温化学镀铜体系的研究 | 第27-29页 |
| ·基础化学镀铜溶液的确定 | 第27页 |
| ·温度对酒石酸钾钠体系化学镀铜沉积速率的影响 | 第27-29页 |
| ·低温化学镀铜添加剂的研究 | 第29-39页 |
| ·加速剂的研究 | 第29-36页 |
| ·稳定剂的研究 | 第36-37页 |
| ·应力消除剂的研究 | 第37页 |
| ·表面活性剂的研究 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 复合添加剂对低温化学镀铜的影响 | 第40-54页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·L-苹果酸对酒石酸钾钠体系化学镀铜的影响 | 第41-43页 |
| ·L-苹果酸对化学镀铜阴、阳极极化曲线的影响 | 第41-42页 |
| ·L-苹果酸对化学镀铜膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·硫酸镍对酒石酸钾钠体系化学镀铜沉积速率的影响 | 第43-47页 |
| ·硫酸镍对化学镀铜阴阳极极化曲线的影响 | 第44-46页 |
| ·硫酸镍对化学镀铜膜表面形貌的影响 | 第46-47页 |
| ·2,2'-联二吡啶对酒石酸钾钠体系化学镀铜速率的影响 | 第47-52页 |
| ·2,2'-联二吡啶对化学镀铜阴阳极极化曲线的影响 | 第48-50页 |
| ·2,2'-联二吡啶对化学镀铜膜表面形貌的影响 | 第50-52页 |
| ·SDBS对酒石酸钾钠化学镀铜膜表面形貌的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 酒石酸钾钠体系化学镀铜膜应力及结合力的研究 | 第54-62页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·化学沉积铜膜应力的测试 | 第54-58页 |
| ·硫酸镍对酒石酸钾钠化学镀铜膜应力的影响 | 第58页 |
| ·表面活性剂对酒石酸钾钠化学镀铜膜应力的影响 | 第58-59页 |
| ·化学沉积铜膜结合力的的测试 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第6章 低温低应力化学镀铜在FR-4上的应用 | 第62-68页 |
| ·引言 | 第62页 |
| ·实验部分 | 第62-64页 |
| ·实验材料 | 第62-63页 |
| ·实验流程 | 第63页 |
| ·实验仪器 | 第63-64页 |
| ·实验结果讨论 | 第64-67页 |
| ·时间对FR-4基板微蚀效果的影响 | 第64-65页 |
| ·微蚀后FR-4基板表面红外测试 | 第65页 |
| ·FR-4基板上化学镀铜结合力的测试 | 第65-66页 |
| ·FR-4基板上化学镀铜膜应力的测试 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 全文总结 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第78页 |
