| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-21页 |
| ·选题背景及研究意义 | 第8-10页 |
| ·文献综述 | 第10-19页 |
| ·电磁净化技术的发展概况及基本原理 | 第10-12页 |
| ·电磁净化技术发展现状 | 第12-19页 |
| ·本文主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 实验材料、装置与研究方法 | 第21-27页 |
| ·实验材料的选择 | 第21页 |
| ·实验装置 | 第21-24页 |
| ·实验方法 | 第24-25页 |
| ·分析表征 | 第25-27页 |
| 第3章 行波磁场下初生硅颗粒及流场分布规律研究 | 第27-35页 |
| ·行波磁场熔体中初生硅颗粒分布规律研究 | 第27-28页 |
| ·行波磁场熔体中流场分布规律研究 | 第28-34页 |
| ·行波磁场中熔体流动 | 第28-32页 |
| ·行波磁场熔体中流场分布及夹杂物分布数值模拟 | 第32-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第4章 行波磁场净化技术研究 | 第35-55页 |
| ·磁场强度对初生硅颗粒分布规律影响 | 第35-42页 |
| ·频率 50Hz 不同电流下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第35-38页 |
| ·频率 100Hz 不同电流下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第38-39页 |
| ·频率 200Hz 不同电流下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第39-41页 |
| ·讨论与分析 | 第41-42页 |
| ·磁场频率对初生硅颗粒分布规律影响 | 第42-48页 |
| ·电流 20A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第42-43页 |
| ·电流 50A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第43-44页 |
| ·电流 80A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第44-45页 |
| ·电流 110A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第45-46页 |
| ·讨论与分析 | 第46-48页 |
| ·磁场作用时间对初生硅颗粒分布规律影响 | 第48-54页 |
| ·20A，50Hz 不同时间下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第48-49页 |
| ·50A，100Hz 不同时间下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第49-50页 |
| ·80A，50Hz 不同时间下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第50-51页 |
| ·讨论与分析 | 第51-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第5章 结论与展望 | 第55-58页 |
| ·主要结论 | 第55页 |
| ·未来研究工作与展望 | 第55-58页 |
| ·工业应用问题 | 第55-56页 |
| ·未来研究工作的展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第64页 |
