超声辅助HF酸处理技术在光学表面零缺陷制造中作用研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| ·应用背景 | 第9-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-14页 |
| ·本文工作的意义 | 第14-15页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第15-16页 |
| 2 光学表面缺陷的化学刻蚀模型 | 第16-29页 |
| ·HF酸刻蚀反应机理 | 第16-17页 |
| ·表面积-体积酸蚀模型 | 第17-19页 |
| ·有限差分酸蚀模型 | 第19-24页 |
| ·结合物质转移的几何酸蚀模型 | 第24-27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 3 HF酸刻蚀对光学表面质量的影响 | 第29-39页 |
| ·传统HF酸刻蚀对元件表面的影响 | 第29-34页 |
| ·刻蚀速率 | 第29-31页 |
| ·面形 | 第31-33页 |
| ·表面粗糙度 | 第33-34页 |
| ·超声辅助HF酸刻蚀对元件表面的影响 | 第34-37页 |
| ·刻蚀速率 | 第35页 |
| ·面形与表面粗糙度 | 第35-36页 |
| ·接触角 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 4 超声辅助HF酸刻蚀对亚表面缺陷的抑制作用 | 第39-50页 |
| ·表面微缺陷的刻蚀 | 第39-40页 |
| ·精磨元件的刻蚀 | 第40-47页 |
| ·表面形貌的对比 | 第41-43页 |
| ·纵深方向的对比 | 第43-47页 |
| ·超声辅助刻蚀后元件的损伤阈值 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 5 总结与展望 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
