| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| ·PECVD技术研究现状 | 第8-10页 |
| ·PECVD的原理和应用 | 第10-14页 |
| ·PECVD的原理 | 第10-12页 |
| ·PECVD在光学薄膜中的应用 | 第12-14页 |
| ·超宽带增透膜的研究现状 | 第14-15页 |
| ·渐变折射率薄膜的研究现状 | 第15-17页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第17-19页 |
| 2 课题方案和可行性论证 | 第19-25页 |
| ·课题的技术路线 | 第19-20页 |
| ·方案可行性论证 | 第20-24页 |
| ·PECVD制备光学薄膜稳定性实验 | 第20-21页 |
| ·PECVD制备渐变折射率薄膜可行性实验 | 第21-24页 |
| ·所需的实验条件 | 第24页 |
| ·预期达到的目标 | 第24-25页 |
| 3 PECVD制备单层光学薄膜工艺技术研究 | 第25-36页 |
| ·高折射率薄膜制备工艺技术研究 | 第25-29页 |
| ·工艺选择及技术分析 | 第25-26页 |
| ·制备SiNx：H薄膜实验 | 第26-29页 |
| ·小结 | 第29页 |
| ·低折射率薄膜制备工艺技术研究 | 第29-36页 |
| ·沉积SiOxFy的基本原理 | 第30-31页 |
| ·SiOxFy薄膜制备工艺探索 | 第31-33页 |
| ·SiOxFy薄膜制备工艺优化 | 第33-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 4 膜系设计 | 第36-67页 |
| ·光学薄膜设计基础 | 第36-42页 |
| ·光在均匀介质中的传播 | 第36-41页 |
| ·光在渐变折射率介质中的传播 | 第41-42页 |
| ·膜系设计基本方法 | 第42-59页 |
| ·传统宽带增透膜系设计理念 | 第42-45页 |
| ·渐变折射率薄膜傅立叶变换设计方法 | 第45-46页 |
| ·遗传算法设计渐变折射率薄膜 | 第46-51页 |
| ·混合型渐变折射率薄膜膜系设计方法 | 第51-57页 |
| ·褶皱滤光片膜系设计理念 | 第57-59页 |
| ·超宽带增透膜系设计方案 | 第59-67页 |
| ·needle优化HL方案 | 第59-60页 |
| ·遗传算法优化HLHL方案 | 第60-61页 |
| ·傅立叶变换算法方案 | 第61-63页 |
| ·超宽带hybrid膜系设计 | 第63-67页 |
| 5 超宽带增透膜的制备 | 第67-74页 |
| ·PECVD材料选取 | 第68-69页 |
| ·混合渐变宽带增透膜的镀制 | 第69-70页 |
| ·工艺参数设置 | 第69页 |
| ·薄膜测试结果 | 第69-70页 |
| ·五次匹配层薄膜的镀制 | 第70-71页 |
| ·工艺参数设置 | 第70页 |
| ·薄膜测试结果 | 第70-71页 |
| ·G|1.52→1.97|1.8→1.4|1.4→1.97|L|Air混合渐变超宽带增透膜的镀制 | 第71-73页 |
| ·工艺参数设置 | 第71页 |
| ·薄膜测试结果 | 第71-73页 |
| ·小结 | 第73-74页 |
| 6 结论 | 第74-76页 |
| ·结论 | 第74页 |
| ·展望 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |